[实用新型]多弧离子镀膜靶材有效
申请号: | 202020535275.6 | 申请日: | 2020-04-13 |
公开(公告)号: | CN211897089U | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 杨小岗 | 申请(专利权)人: | 陕西欧凯利靶材股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 西安知诚思迈知识产权代理事务所(普通合伙) 61237 | 代理人: | 麦春明 |
地址: | 721006 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 镀膜 | ||
本实用新型属于多弧离子镀膜技术领域,尤其为多弧离子镀膜靶材,包括底座、定位槽和顶板,所述底座的底端表面贴合有防腐涂层,所述定位槽的内部安装有凸块,所述顶板的底端表面连接有延伸块,所述延伸块的右侧设置有卡槽,所述顶板的表面固定有铆钉,所述外壳的外部设置有外螺纹。该多弧离子镀膜靶材通过顶板、铆钉、外壳和外螺纹的设置,顶板通过三个铆钉和凸块之间的配合与底座固定连接,而外壳对顶板的外部表面进行遮挡,使外部作用力不会直接作用到顶板上,同时也能够对铆钉进行遮挡,使镀膜靶材更加美观,通过外壳外部的外螺纹能够将镀膜靶材与合适的设备进行连接,现有的镀膜靶材是直接把铜焊上去,易损坏材料,该镀膜靶材解决了这一情况。
技术领域
本实用新型涉及多弧离子镀膜技术领域,具体为多弧离子镀膜靶材。
背景技术
多弧离子镀膜是采用电弧放电的方法,在固体的阴极靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法,在采用多弧离子镀膜的方法进行镀膜时,必须要使用到专用的镀膜靶材。
现在传统的镀膜靶材使用贵金属钛、铬、锆、镍等,成本较高,不便于与合适的设备进行安装连接,且容易出现材料的损坏,需要降低靶材成本,使用时不会轻易的损坏,且便于与合适的设备进行安装连接的新型镀膜靶材。
针对上述问题,急需在原有镀膜靶材的基础上进行创新设计。
发明内容
本实用新型的目的在于提供多弧离子镀膜靶材,以解决上述背景技术中提出的贵金属成本较高,在使用时容易出现损坏,不便于与合适的设备进行安装连接,且容易出现材料的损坏的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:多弧离子镀膜靶材,包括底座、定位槽和顶板,所述底座的底端表面贴合有防腐涂层,且底座的内部安置有支撑机构,所述定位槽的内部安装有凸块,且定位槽位于底座的顶端表面,所述顶板的底端表面连接有延伸块,且顶板位于底座的上方,所述延伸块的右侧设置有卡槽,所述顶板的表面固定有铆钉,且顶板的外部安置有外壳,所述外壳的外部设置有外螺纹。
优选的,所述防腐涂层的表面积大于底座的表面积,且防腐涂层的内部表面与底座的外部表面之间紧密贴合。
优选的,所述支撑机构包括支撑板、加强筋、固定圈和支杆,且支撑板的右侧固定有加强筋,所述加强筋的前端安装有固定圈,且固定圈的内部安置有支杆。
优选的,所述加强筋与支撑板之间为焊接,且支撑板之间关于底座的竖直中心线相对称,并且支撑板与加强筋之间呈桁架状结构。
优选的,所述固定圈呈螺旋状结构分布于支杆的外部,且固定圈与底座之间相垂直,并且底座通过固定圈构成弹性结构。
优选的,所述顶板通过延伸块、卡槽、定位槽和凸块之间的配合与底座之间卡和连接,且凸块与铆钉之间的水平中心线相重合,并且顶板通过铆钉和凸块之间的配合与底座固定连接,而且铆钉之间关于顶板的圆心环形分布。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该多弧离子镀膜靶材不会轻易的受到外部腐蚀物质的侵蚀而破裂,可承受压力有限,使用寿命长,使用时不会轻易的损坏,且便于与合适的设备进行安装连接;
1、该多弧离子镀膜靶材通过支撑机构的设置,桁架状结构提升了底座可承受的作用力,使底座受到冲击后不会轻易的损坏,从而使镀膜靶材在使用时不会轻易的损坏,加强筋和支撑板之间的焊接具有生产率高,成本低,变形小,连接质量高和操作简单的特点,简化了镀膜靶材的生产难度,从而缩小了镀膜靶材的生产手工费,便于镀膜靶材进行推广使用,固定圈通过螺旋状结构延长了作用力的传导时间,从而减小了相同动量变化下物体所受到的作用力,起到了减震缓冲的作用,对底座提供了保护,进一步的提升了底座可承受的压力;
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