[实用新型]一种等离子体增强化学气相沉积装置

说明书

本实用新型提供了一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括用于气相沉积的反应腔，所述反应腔上方的微波源反应器，所述反应腔中部设置有样品台，所述样品台设置在升降装置上，所述升降装置底端固定在密封板上，所述密封板设置在样品台出入口处，所述密封板底端固定在在驱动板上，所述驱动板的左、右两侧设置有液压驱动装置，所述液压驱动装置包括伸缩杆，所述两侧的伸缩杆底端分别固定在驱动板侧面，所述驱动板下方设置有取样室，所述取样室的左右两侧分别设置有吹扫装置和吸附网，所述吸附网可拆卸的设置在取样室的侧壁上，本实用新型取样方便，使用便捷，从下方取样不会损坏上部的等离子体发生装置等，而且取样过程中外延生长环境清洁无污染。

技术领域

本实用新型涉及气相沉积技术领域，特别涉及一种等离子体增强化学气相沉积装置。

背景技术

气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术按照成膜机理，包括真空蒸镀、溅射镀膜、等离子体气相沉积等；其中，等离子体气相沉积的应用也越来越广，在等离子体增强化学气相沉积装置中样品放置在样品台上，传统的垂直升降放取样结构，具有操作空间有限、使用不便捷、生产效率低、易损坏上部的等离子体发生装置等，在实际的使用过程中极为不便，而且取样过程中需要洁净的外延生长环境。

实用新型内容

为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供的技术方案为:一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括用于气相沉积的反应腔，所述反应腔上方的微波源反应器，所述反应腔中部设置有样品台，所述样品台设置在升降装置上，所述升降装置底端固定在密封板上，所述反应腔底端设置有样品台出入口，所述密封板设置在样品台出入口处，所述密封板底端固定在在驱动板上，所述驱动板的左、右两侧设置有液压驱动装置，所述液压驱动装置包括伸缩杆，所述两侧的伸缩杆底端分别固定在驱动板侧面，所述驱动板下方设置有取样室，所述取样室的左右两侧分别设置有吹扫装置和吸附网，所述吸附网可拆卸的设置在取样室的侧壁上。

优选的是，所述升降装置包括升降液压杆和升降液压缸，所述升降液压杆的顶端固定在样品台底端中部，所述升降液压杆的底端端设置在升降液压缸的输出端，所述升降液压缸底座固定在密封板的上表面。

优选的是，所述伸缩杆的顶端设置在伸缩液压缸的输出端，所述伸缩液压缸底座固定在样品台出入口两侧的反应腔的底部。

优选的是，所述吹扫装置包括吹扫风机和吹扫管，所述吹扫管与吹扫风机相连通，所述吹扫风机固定在吹扫箱外部，所述吹扫管的出气孔对中样品台一侧。

优选的，所述驱动板左右两侧设置有导向杆，所述导向杆穿过驱动板竖直且平行设置。

优选的是，所述导向杆顶端固定在反应腔底部，底部固定设置有限位块。

优选的是，所述样品台出入口的一侧设置有挡板，所述挡板的一侧设置有推拉杆，所述推拉杆水平设置，所述推拉杆的外端固定在挡板侧面，所述推拉杆设置在推拉液压缸的输出端，所述推拉液压缸固定在反应腔侧面。

优选的是，所述密封板的周围设置有密封条，所述密封板与样品台出入口可密封安装。

本实用新型的有益效果体现在以下方面：

本实用新型采用样品台下方设置有密封板上，所述密封板底端固定在在驱动板上，所述驱动板由伸缩杆控制可将样品台竖直移出反应腔，在取样室中取出反应样品，所述挡板在推拉杆的驱动下将样品台出入口遮盖，所述驱动板下方设置有取样室内的吹扫装置将样品台吹扫干净，所述样品台吹过的气体经吸附网吸附后排出，取样方便，使用便捷，从下方取样不会损坏上部的等离子体发生装置等，而且取样过程中外延生长环境清洁无污染。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为图1中A处局部放大图。