[实用新型]一种真空离子氮化设备上的防护结构

权利要求书

1.一种真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，包括放置平台(1)，放置平台(1)与放置架(2)相邻设置，放置平台(1)用于放置被吊起的盖体(3)；放置平台(1)上设置有用于限制盖体(3)水平移动的防护组件(4)。

2.根据权利要求1所述的真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，所述防护组件(4)包括：阻拦柱(41)、安装盘(42)以及驱动件(43)，阻拦柱(41)竖向设置有多根，多根阻拦柱(41)下端穿过放置平台(1)上表面与安装盘(42)固定连接，阻拦柱(41)上端与所述盖体(3)形成隔挡；安装盘(42)滑动设置在放置平台(1)内部；驱动件(43)也设置在放置平台(1)内部且用于驱动安装盘(42)上下滑动。

3.根据权利要求2所述的真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，所述阻拦柱(41)处于所述盖体(3)的外部，并且阻拦柱(41)的外侧表面与盖体(3)的外侧表面形成隔挡。

4.根据权利要求3所述的真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，所述阻拦柱(41)的外侧表面上固定设置有防刮软层(411)。

5.根据权利要求3所述的真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，相邻两根阻拦柱(41)之间设置有连接件(5)，以将相邻两根阻拦柱(41)串联起来。

6.根据权利要求1所述的真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，所述放置平台(1)的上表面处设置有固定槽(11)，所述盖体(3)下端处于固定槽(11)中，并且盖体(3)外侧表面与固定槽(11)的槽壁抵接。

7.根据权利要求6所述的真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，所述固定槽(11)的槽口截面大于固定槽(11)槽底截面。

8.根据权利要求1所述的真空离子氮化设备上的防护结构，其特征在于，所述放置平台(1)下方设置有带脚刹的万向轮(12)。