[实用新型]一种真空离子氮化设备上的防护结构有效

专利信息
申请号: 202020554332.5 申请日: 2020-04-14
公开(公告)号: CN211947195U 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 朱喆;赵睿;杨丽琳;张彦峰;梁兰 申请(专利权)人: 深圳市和胜金属技术有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 任志龙
地址: 518000 广东省深圳市光*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 离子 氮化 设备 防护 结构
【说明书】:

实用新型涉及一种真空离子氮化设备上的防护结构,其包括放置平台,放置平台与放置架相邻设置,放置平台用于放置被吊起的盖体;放置平台上设置有用于限制盖体水平移动的防护组件。本实用新型具有能够为盖体提供一个稳定的放置位置、使得盖体不易掉落砸伤人的效果。

技术领域

本实用新型涉及真空离子氮化设备的技术领域,尤其是涉及一种真空离子氮化设备上的防护结构。

背景技术

真空离子氮化设备是在真空容器中使含氮稀薄气体在直流电场中电离,正离子轰击金 属零件表面形成氮化层,以达到表面硬化的设备。

现有的真空离子氮化设备包括盖体和放置架,盖体盖设在放置架上将放置架完全盖住,放置架用于盛放需要被淡化处理的金属件;该种设备在工作时,首先需要使用行吊之类的起吊设备将盖体向上吊起,使得放置架露出,之后再将需要淡化的金属件放置在放置架上,最后再将盖体盖住放置架,启动设备即可开始对处于放置架上的金属件进行淡化处理。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷:盖体被吊起后悬浮在放置架上方,工作人员在放置金属件时是站在盖体下方的,此时若是因为起吊设备出现故障而导致盖体下落,就容易将工作人员砸伤,进而导致安全事故,故而有待改进。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的是提供一种真空离子氮化设备上的防护结构,其具有能够为盖体提供一个稳定的放置位置、使得盖体不易掉落砸伤人的效果。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种真空离子氮化设备上的防护结构,包括放置平台,放置平台与放置架相邻设置,放置平台用于放置被吊起的盖体,放置平台上端的高度高于放置架上端的高度;放置平台上设置有用于限制盖体水平移动的防护组件。

通过采用上述技术方案,放置平台的设置,使得盖体被吊起后可以放置在放置平台上,此时即使起吊件出现损坏,盖体也不易出现突然下落的情况,而且因为放置平台处于放置架旁边,盖体也就更加不易出现下落而砸伤人的情况,又因为放置平台上端的高度高于放置架上端的高度,使得盖体在放置在放置平台上时不需要向下移动太多,使得放置时会更加的方便快捷;防护组件的设置,使得盖体放置在放置平台上之后不易从放置平台上掉下,大大提升了盖体放置的稳定性,以及设备使用的安全性。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为,所述防护组件包括:阻拦柱、安装盘以及驱动件,阻拦柱竖向设置有多根,多根阻拦柱下端穿过放置平台上表面与安装盘固定连接,阻拦柱上端与所述盖体形成隔挡;安装盘滑动设置在放置平台内部;驱动件也设置在放置平台内部且用于驱动安装盘上下滑动。

通过采用上述技术方案,阻拦柱的设置,起到了阻碍阻拦柱水平移动的目的,使得盖体不易从放置平台上掉下,提升了盖体放置的稳定性以及安全性;安装盘的设置,使得多根阻拦柱可以同时上下移动,此时也就不需要安装太多的驱动件来驱动多根阻拦柱上下移动,节省了资源,而且多根阻拦柱同时上下移动,阻拦效果也会更强。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为,所述阻拦柱处于所述盖体的外部,并且阻拦柱的外侧表面与盖体的外侧表面形成隔挡。

通过采用上述技术方案,阻拦柱处于盖体的外部,方便随时查看阻拦柱的阻拦状态,使得阻拦柱上升时不易撞到盖体。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为,所述阻拦柱的外侧表面上固定设置有防刮软层。

通过采用上述技术方案,防刮软层的设置,使得阻拦柱升降时不易刮伤盖体的外侧表面,减少了阻拦柱对盖体表面的损伤。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为,相邻两根阻拦柱之间设置有连接件,以将相邻两根阻拦柱串联起来。

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