[实用新型]一种真空镀膜机用减压装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机用减压装置，包括减压腔与气压腔和气压泵，所述气压腔置于所述减压腔的顶部，所述气压腔的顶部设置有连接管，所述气压泵置于所述连接管的一侧，所述减压腔的两侧设置有减压泵，所述减压腔的底部设置有连接螺纹管；在使用的时候通过气压泵进行气压控制，可以进行冲击辅助，同时可以调节气压，便于进行控制气压的大小，同时减压腔可以进行减压控制，在冲击的时候减压泵向减压腔内进行输气，使得两股气流进行冲击抵消。本实用新型减少冲击力，同时可以进行调节冲击的压力，可以调节到合适的冲击的效果。

技术领域

本实用新型涉及镀膜相关技术领域，具体为一种真空镀膜机用减压装置。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

在镀膜的过程中需要保持较为稳定的压力，保证镀膜的效果，在作业的时候需要保证冲击的效果，现有的技术在压力调解时候调解输出压力大小，但是会导致镀膜原料输出不顺畅或者压力过大导致镀膜效果不佳。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机用减压装置，以解决上述背景技术中提到的在镀膜的过程中需要保持较为稳定的压力，保证镀膜的效果，在作业的时候需要保证冲击的效果，现有的技术在压力调解时候调解输出压力大小，但是会导致镀膜原料输出不顺畅或者压力过大导致镀膜效果不佳。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜机用减压装置，包括减压腔与气压腔和气压泵，所述气压腔置于所述减压腔的顶部，所述气压腔的顶部设置有连接管，所述气压泵置于所述连接管的一侧，所述减压腔的两侧设置有减压泵，所述减压腔的底部设置有连接螺纹管；在使用的时候通过气压泵进行气压控制，可以进行冲击辅助，同时可以调节气压，便于进行控制气压的大小，同时减压腔可以进行减压控制，在冲击的时候减压泵向减压腔内进行输气，使得两股气流进行冲击抵消，减少冲击力，同时可以进行调节冲击的压力，可以调节到合适的冲击的效果。

进一步的，所述气压腔与所述气压泵管道连接，所述气压泵的一侧设置有控制开关；气压泵可以进行辅助冲击，将镀膜原料进行喷出，且可以通过控制开关进行调节，当压力较大的时候可以关闭气压泵，当气压较小的时候可以进行气压辅助，保证冲击的效果。

进一步的，所述减压腔的底部开设有多组冲击板，所述减压腔为圆柱状；冲击出的镀膜原料通过冲击板可以进行有效的镀膜，提高了镀膜的效果，原料输出较为均匀，同时冲击板可以进行拆卸，便于进行有效的冲击镀膜。

进一步的，所述减压腔与所述气压腔均采用不锈钢材质，所述减压腔与所述气压腔内壁与外壁均涂覆有防腐蚀层；具有较好的防腐蚀效果。

进一步的，所述减压腔内设置有气压管，所述气压管与所述减压泵管道连接，所述气压管上安装有旋转调节板，所述旋转调节板的上方设置有安装板，所述安装板的上方设置有多组导气管；在气压抵消的时候气压管反方向冲击，且可以根据实际的冲击力大小进行旋转调节板进行调节输出气流的大小，多个导气管同时输气，抵消力度较为均匀。

进一步的，所述连接螺纹管与所述减压腔的底部固定焊接，所述连接螺纹管采用不锈钢材质；保证较为稳定的安装效果，同时具有较好的防腐蚀效果。

本实用新型提供了一种真空镀膜机用减压装置，具备以下有益效果：