[实用新型]一种蒸发均匀的分体式坩埚有效
申请号: | 202020578962.6 | 申请日: | 2020-04-17 |
公开(公告)号: | CN212925147U | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 刘汝强;王殿春;孙蕾;吴思华 | 申请(专利权)人: | 山东国晶新材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 赵龙群 |
地址: | 251200 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蒸发 均匀 体式 坩埚 | ||
本实用新型提供了一种蒸发均匀的分体式坩埚,包括盛料埚,盛料埚为圆柱体,分为上部分和下部分,上部分直径大于下部分上部分由上到下设置有气体分散埚和气体集中埚;气体分散埚整体呈圆柱形,上端为敞开面,底部有进气孔;气体集中埚整体呈圆柱形,下端为敞开面,上端有出气孔;所述进气孔与出气孔的位置相适应;使得气体变得均匀分散,从而使得盛料埚内的蒸发料蒸发更加均匀,分离式的设计,使得气体集中埚、气体分散埚可以轻松取下,方便随时清洗更换,使得清洗安装更加方便。
技术领域
本实用新型涉及一种蒸发均匀的分体式坩埚,属于材料热蒸发技术领域。
背景技术
目前在材料热蒸发领域所用的坩埚多是上下直径一致或是底部直径小上口大的石墨坩埚或是陶瓷坩埚。由于坩埚外部加热区域靠近坩埚的外壁,热量较高,靠近坩埚外壁的金属或有机溶剂蒸发速率高于中心区域,这样会导致金属或有机溶剂蒸发镀膜不均匀,边缘位置镀膜厚度高于中心区域,故现在亟需寻求一种蒸发均匀的陶瓷坩埚。
中国专利:CN201820006902.X,公开了“一种块体合金压铸用双层均匀导热石墨坩埚,包括外层石墨坩埚和内层石墨坩埚,所述外层石墨坩埚内腔形状和内层石墨坩埚外形相匹配。本实用新型采用双层坩埚设计,坩埚厚度均一,使合金熔化更加均匀,使熔化状态的合金中微晶尺寸更加一致,进而控制了压铸铸件的微观缺陷,使压铸铸件的材料性能得到提高。”但是,该石墨坩埚底部直径小上口大,仍会发生受热不均的情况。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型提供了一种蒸发均匀的分体式坩埚。
一种蒸发均匀的分体式坩埚,包括盛料埚,盛料埚包括上部分和下部分,上部分直径大于下部分直径;所述上部分内腔由上到下设置有气体分散埚和气体集中埚;气体分散埚整体呈圆柱形,上端为敞开面,底部有进气孔;气体集中埚整体呈圆柱形,下端为敞开面,顶部有出气孔;所述进气孔与出气孔相对应。
气体集中埚主要是将气体通过埚上出气孔将蒸发速率不同的气体进行聚集,通过进气横截面积的减小降低不同位置气体的蒸发速率。
气体分散埚是避免气体集中埚出来的气体速率过快,导致镀膜的质量不高且蒸发面积小、蒸发效率低,同时便于拿取和清洗。
根据本实用新型,优选的,所述进气孔直径大于出气孔直径。
根据本实用新型,优选的,所述盛料埚上端设置有外延台,外延台用于支撑。
放置到金属圆环上进行支撑。
根据本实用新型,优选的,所述气体集中埚的高度小于气体分散埚的高度。
根据本实用新型,优选的,所述气体集中埚的高度与气体分散埚的高度一致。
根据本实用新型,优选的,盛料埚的轴向长度大于盛料埚的径向长度。
根据本实用新型,优选的,所述上部分高度小于下部分的高度。
本实用新型的有益效果在于:
1、通过增加气体集中埚、气体分散埚的配合,气体先进过气体集中锅,使得气体均集中到出气孔排出,再经过气体分散锅,使得气体变得均匀分散,从而使得盛料埚内的蒸发料蒸发更加均匀。
2、分离式的设计,使得气体集中埚、气体分散埚可以轻松取下,方便随时清洗更换,使得清洗安装更加方便。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图;
图2是本实用新型盛料埚结构示意图;
图3是本实用新型气体集中埚结构示意图;
图4是本实用新型气体分散埚结构示意图;
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