[实用新型]一种用于湿法腐蚀晶片的装置

权利要求书

1.一种用于湿法腐蚀晶片的装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)内部安装有腐蚀组件(2)，所述腐蚀组件(2)包括浸泡箱(201)、滑块(202)、第一丝杆(203)、电机(204)、支撑杆(205)、活动板(206)、分隔板(207)、第二丝杆(208)、齿头(209)和固定盘(210)；

所述箱体(1)内部底端安装有浸泡箱(201)，所述浸泡箱(201)内壁底端两侧均滑动连接有滑块(202)，所述浸泡箱(201)侧面底端活动贯穿有第一丝杆(203)，所述第一丝杆(203)一端与电机(204)输出轴相连接，所述电机(204)输入端与外部电源输出端电性连接，所述滑块(202)顶端铰接有支撑杆(205)，所述支撑杆(205)顶端铰接有活动板(206)，所述浸泡箱(201)内壁中部底端焊接有分隔板(207)，所述分隔板(207)顶端中部活动贯穿有第二丝杆(208)，所述第二丝杆(208)顶端焊接有齿头(209)，所述齿头(209)顶端安装有固定盘(210)。

2.根据权利要求1所述的一种用于湿法腐蚀晶片的装置，其特征在于：所述第一丝杆(203)外侧两端开设的螺纹相反，且两个滑块(202)分别通过螺纹活动套接于第一丝杆(203)两侧。

3.根据权利要求1所述的一种用于湿法腐蚀晶片的装置，其特征在于：所述活动板(206)通过螺纹活动套接于第二丝杆(208)外侧。

4.根据权利要求1所述的一种用于湿法腐蚀晶片的装置，其特征在于：所述固定盘(210)底端中部开设有与齿头(209)对应的齿孔。

5.根据权利要求1所述的一种用于湿法腐蚀晶片的装置，其特征在于：所述浸泡箱(201)背面顶端安装有进液管(3)，所述浸泡箱(201)背面底端安装有排液管(4)。

6.根据权利要求1所述的一种用于湿法腐蚀晶片的装置，其特征在于：所述固定盘(210)顶端安装有放置组件(5)，所述放置组件(5)包括固定杆(501)、镍网盘(502)、放置槽(503)、顶盘(504)、限位轴(505)和气缸(506)；

所述固定盘(210)顶端四周位置处均焊接有固定杆(501)，所述固定杆(501)外部一侧均匀安装有镍网盘(502)，所述镍网盘(502)顶端均匀开设有放置槽(503)，所述固定杆(501)顶端通过螺钉安装有顶盘(504)，所述顶盘(504)顶端中部活动安装有限位轴(505)，所述限位轴(505)顶端安装有气缸(506)。

7.根据权利要求1所述的一种用于湿法腐蚀晶片的装置，其特征在于：所述箱体(1)正面安装有封闭门(6)，所述箱体(1)内壁两侧均安装有水箱(7)，所述水箱(7)侧面安装有加热管(8)，所述箱体(1)内壁粘接有保温层(9)。