[实用新型]一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置有效
申请号: | 202020624465.5 | 申请日: | 2020-04-23 |
公开(公告)号: | CN212883677U | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 曹镭 | 申请(专利权)人: | 浙江金连接科技有限公司 |
主分类号: | B08B1/02 | 分类号: | B08B1/02;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
代理公司: | 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 | 代理人: | 张淼 |
地址: | 314000 浙江省嘉兴市经济*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 测试 晶片 表面 清理 装置 | ||
本实用新型公开了一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置,包括工作台,所述工作台底部两侧均固定连接有支撑板,所述工作台顶部两侧均固定连接有挡板,所述工作台顶部于两个挡板之间放置有过滤网,两个所述挡板之间固定连接有横杆,所述横杆外活动套设有套管,所述套管顶部固定连接有蓄水箱,所述蓄水箱两侧底部均固定连接有排水管,所述排水管底部固定连接有喷淋管道,所述套管底部固定连接有电动推杆,所述电动推杆底部于两个喷淋管道下方固定连接有毛刷板,所述毛刷板底部设有刷毛,所述毛刷板上开设有多个漏孔。本实用新型能在清理的同时使用清洗液冲洗,清理效果好,便于晶片的固定,清理时稳定不晃动,提高清理的效率。
技术领域
本实用新型涉及半导体晶片技术领域,尤其涉及一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置。
背景技术
随着半导体器件工艺制作的不断完善,器件尺寸越来越小,利用率也越来越高,半导体衬底的质量尤其是晶片表面的质量对器件的可靠性和稳定性影响也越来越大,晶片表面清洗是晶片加工过程中最重要及最后一个环节,是获得高质量表面不可或缺的步骤,晶片表面清洗的目的是去除前道工序的各种残留物质,获取新鲜、表面平整、洁净的表面。
而现有清理装置清洁起来方式单一,无法保证表面灰尘杂质完全清除,并且需要手动调整晶片位置,操作麻烦。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中提出的问题,而提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置,包括工作台,所述工作台底部两侧均固定连接有支撑板,所述工作台顶部两侧均固定连接有挡板,所述工作台顶部于两个挡板之间放置有过滤网,两个所述挡板之间固定连接有横杆,所述横杆外活动套设有套管,所述套管顶部固定连接有蓄水箱,所述蓄水箱两侧底部均固定连接有排水管,所述排水管底部固定连接有喷淋管道,所述套管底部固定连接有电动推杆,所述电动推杆底部于两个喷淋管道下方固定连接有毛刷板,所述毛刷板底部设有刷毛,所述毛刷板上开设有多个漏孔。
其中,所述过滤网顶部滑动连接有放置板,所述放置板顶部两侧均对称铰接有卡扣,两个所述挡板相向的一侧均固定连接有往复推杆,所述往复推杆一端与放置板固定连接。
其中,所述排水管上安装有调节阀。
其中,两个所述支撑板之间活动连接有集液屉。
其中,所述喷淋管道底部设有多个喷水口。
其中,所述放置板底部两侧均固定连接有滑块,所述工作台上水平开设有与滑块相匹配的滑槽。
与现有技术相比,本实用新型具备以下优点:
1、本实用新型通过设置蓄水箱、喷淋管道、电动推杆、毛刷板、漏孔和刷毛,能在清理的同时使用清洗液冲洗,双重清洁,清理效果好。
2、本实用新型通过设置放置板、卡扣和往复推杆,能便于晶片的固定,清理时稳定不晃动,同时往复推杆带动放置板水平移动能提高清理的效率。
综上,本实用新型能在清理的同时使用清洗液冲洗,双重清洁,清理效果好,便于晶片的固定,清理时稳定不晃动,同时往复推杆带动放置板水平移动能提高清理的效率。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置的实施例一结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置的实施例二结构示意图;
图3为本实用新型提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置的A处放大图。
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