[实用新型]位置灵敏探测器以及掩膜版对准系统有效
申请号: | 202020625464.2 | 申请日: | 2020-04-23 |
公开(公告)号: | CN211605165U | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 高安;孙建超;忻斌杰;陈小娟 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;G03F9/00;G01B11/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 位置 灵敏 探测器 以及 掩膜版 对准 系统 | ||
本实用新型公开了一种位置灵敏探测器以及掩膜版对准系统,该位置灵敏探测器包括:光敏器件层,用于接收第一波长光,并转换成电信号;光转换结构,光转换结构包括透明基板和第一光转换层;透明基板位于光敏器件层之上;第一光转换层设置有横向间隔分布的反光区和光转换透光区,光转换透光区用于将照射到第一光转换层上的第二波长光进行散射,并转换为第一波长光,其中,第二波长光的波长大于第一波长光的波长;透明基板远离第一光转换层一侧的表面为非球面。本实用新型实施例提供的技术方案,第一光转换层中光转换透光区用于将照射到第一光转换层上的第二波长光进行散射,并转换为第一波长光,降低了位置灵敏探测器的加工难度以及生产成本。
技术领域
本实用新型实施例涉及半导体技术领域,尤其涉及一种位置灵敏探测器以及掩膜版对准系统。
背景技术
在光刻过程中,在曝光之间需要将掩膜版上的对位标记和光刻机上的对位标记进行对准。通常在光刻机的对位标记上放置位置灵敏探测器,位置灵敏探测器若检测到透过掩膜版上的对位标记的对准光束,则表示对准完成。
现有技术中的位置灵敏探测器中,光转换结构中的透明基板设计成凸透镜形状或者透明基板和光转换层之间填充液体,以将对准光束汇聚到光敏器件层转换层。
现有技术中存在的缺陷是,透明基板设计成凸透镜形状或者透明基板和光转换层之间填充液体,使得位置灵敏探测器加工难度大,且成本比较高。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型实施例提供了一种位置灵敏探测器以及掩膜版对准系统,降低了位置灵敏探测器的加工难度以及成本比较。
第一方面,本实用新型实施例提供了一种位置灵敏探测器,包括:
光敏器件层,用于接收第一波长光,并转换成电信号;
光转换结构,所述光转换结构包括透明基板和第一光转换层;
所述透明基板位于所述光敏器件层之上;
所述第一光转换层位于所述透明基板远离所述光敏器件层一侧的表面,所述第一光转换层设置有横向间隔分布的反光区和光转换透光区,所述光转换透光区用于将照射到所述第一光转换层上的第二波长光进行散射,并转换为所述第一波长光,其中,所述第二波长光的波长大于所述第一波长光的波长;
所述透明基板远离所述第一光转换层一侧的表面为非球面。
可选地,所述透明基板远离所述第一光转换层一侧的表面为平面。
可选地,所述光转换结构还包括第二光转换层,位于所述第一光转换层和所述透明基板之间,用于将所述第二波长光进行散射,并转换为所述第一波长光。
可选地,所述第一光转换层在所述透明基板上的正投影位于所述第二光转换层在所述透明基板上的正投影内。
可选地,所述光敏器件层设置有光电二极管,用于将所述第一波长光转换为电信号。
可选地,所述光转换结构还包括空气层,设置在所述透明基板与所述光敏器件层之间。
可选地,所述光转换结构还包括封装外壳,位于所述光敏器件层的非感光区,且包围所述透明基板以及第一光转换层的侧面。
可选地,所述封装外壳位于所述透明基板的侧面与所述光敏器件层的侧面之间的部分设置有反射层。
可选地,所述位置灵敏探测器还包括粘结层,位于所述封装外壳和所述光敏器件层的非感光区之间,用于固定所述封装外壳和所述光敏器件层。
第二方面,本实用新型实施例提供了一种掩膜版对准系统,包括:
照明部件,发出对准光束;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的