[实用新型]用于化学设备的加热系统有效
| 申请号： | 202020633928.4 | 申请日： | 2020-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN213590413U | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 马克斯·霍斯特勒 | 申请（专利权）人： | 博特化工装置股份公司 |
| 主分类号： | B01J6/00 | 分类号： | B01J6/00 |
| 代理公司： | 北京市万慧达律师事务所 11111 | 代理人： | 王蕊;盛安平 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 化学 设备 加热 系统 | ||
1.用于化学设备的加热系统，特别是用于NaOH和KOH浓缩切粒和造粒单元的加热系统，所述加热系统包括：
盐罐(1)，其具有用于新鲜盐的入口和用于移除废盐熔体的出口，
至少一个加热装置，其适于提供和保持盐处于熔融形式，
管线系统，其适于分配和再循环盐熔体，
其特征在于，所述出口包括用于熔盐的抽吸管线、真空泵(11)、具有开/关阀(9)的排气口(8)、具有限定体积的U形管(7)和具有盐熔体排放阀(13)的排出口，所述盐熔体排放阀(13)适于从所述U形管(7)释放熔盐。
2.根据权利要求1所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，还包括圆筒(14)，所述圆筒(14)的体积与所述U形管(7)的体积相对应。
3.根据权利要求1或2所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，还包括连接到真空管线(10)的液位安全控制器(15)，所述液位安全控制器(15)适于根据所述U形管(7)的填充状态控制所述真空泵(11)。
4.根据权利要求1所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，所述加热装置是电加热元件。
5.根据权利要求4所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，所述加热元件是加热筒(2)，所述加热筒适于浸没在盐熔体中。
6.根据权利要求4或5所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，还包括用于控制操作参数的控制单元，其中所述操作参数包括所述加热元件的表面温度。
7.根据权利要求6所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，所述操作参数包括所述加热元件的开/关状态。
8.根据权利要求7所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，所述操作参数包括盐熔体的温度。
9.根据权利要求1所述的用于化学设备的加热系统，其特征在于，所述盐熔体是HITEC熔盐。
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