[实用新型]一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统有效

专利信息
申请号: 202020651325.7 申请日: 2020-04-26
公开(公告)号: CN212820377U 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 李杰;高跟;刘金庭 申请(专利权)人: 中际山河科技有限责任公司
主分类号: B02C21/00 分类号: B02C21/00;B02C17/10;B02C23/14;B01D36/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410000 湖南省长沙市经济技术*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 硫化铜 浸出 原料 系统
【权利要求书】:

1.一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统,其特征在于,包括搅拌槽、三通阀、过滤箱、介质磨和沉槽箱;所述过滤箱内设置有两个滤斗,所述滤斗的底部设有滤孔,所述滤孔直径≤950μm;所述过滤箱的中间设有隔板,所述过滤箱底部设置有斜坡,所述隔板靠近斜坡的一端设有通孔,所述斜坡较低一侧位于过滤箱的出料口处;所述三通阀的入口与搅拌槽的出料口相连通,所述三通阀的两个出口分别与两个滤斗的入料口相连通;所述过滤箱的出料口通过矿浆泵与介质磨的入料口相连通;所述介质磨的出料口处设有分离筛环,分离筛环的筛孔直径≤800μm,所述介质磨的出料口与沉槽箱的入料口相连通;所述沉槽箱的上端设有沉槽箱出液口,所述沉槽箱的底部设有沉槽箱出料口。

2.根据权利要求1所述的一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统,其特征在于:所述过滤箱设有支撑面,所述滤斗设有凸缘,所述凸缘位于支撑面上;所述滤斗的两侧对称设有提手。

3.根据权利要求1所述的一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统,其特征在于:所述沉槽箱的入料口处设有“直角形”入料导管。

4.根据权利要求1所述的一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统,其特征在于:所述沉槽箱出液口位于沉槽箱的入料口的对面,所述沉槽箱的底部为斜坡形底部,所述出料口位于斜坡形底部较低的一侧。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统,其特征在于:所述介质磨的研磨介质的粒径为1.6-1.8mm、比重为6.0-6.2g/cc、莫氏硬度大于等于9。

6.根据权利要求5所述的一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统,其特征在于:所述介质磨的研磨介质为氧化锆珠,氧化锆珠的技术性能为:粒径1.6-1.8mm、四方相95%、比重6.0-6.2g/cc、莫氏硬度9。

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