[实用新型]一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统

说明书

本实用新型公开了一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统，包括搅拌槽、三通阀、过滤箱、介质磨和沉槽箱；所述过滤箱内设置有两个滤斗，所述滤斗的底部设有滤孔；所述过滤箱的中间设有隔板，所述过滤箱底部设置有斜坡，所述斜坡较低一侧位于过滤箱的出料口处；所述三通阀的入口与搅拌槽的出料口相连通，所述三通阀的两个出口分别与两个滤斗的入料口相连通；所述过滤箱的出料口通过矿浆泵与介质磨的入料口相连通；所述介质磨的出料口与沉槽箱的入料口相连通；所述沉槽箱的上端设有沉槽箱出液口，所述沉槽箱的底部设有沉槽箱出料口。本实用新型的流程短，系统可靠，两次过滤、一次沉槽后使得连续生产的故障点减少。

技术领域

本实用新型属于铜矿冶炼介质磨矿技术领域，具体为一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统。

背景技术

炼铜原料90%来自硫化铜矿，约10%来自氧化矿，少量来自自然铜。目前开采的铜矿石品位为1%左右，采出来的矿石须先经选矿（一般为浮选）得到含铜20%-30%的精矿，再进行冶炼。传统的硫化铜矿冶炼方法，大多采用火法冶炼，火法炼铜产生的硫烟气送制酸生产硫酸。但是较多的铜冶炼厂处于偏远地区，硫酸的储存、运输和销售都是一个难题。而硫化铜氧压浸出所产生的硫元素可以转化成硫磺，能有效避免硫酸的产出。

为了在硫化铜氧压浸出生产中得到较高的浸出率，同时避免浸出渣中硫化铜遭遗弃而产生资源浪费，须将硫化铜精矿经过细磨处理，而硫化铜精矿原料的粒径95%小于90μm，须经细磨得到95%小于20μm的合格矿浆送氧压浸出。

传统的介质磨矿方法，经常因为金属矿的大处理量，以及精矿中难以避免塑料、细树枝等非金属杂质，导致细磨过程中产生聚团、死角等不可预测因素而影响细磨效果，另外因为研磨介质尺寸小而矿浆浓度大，容易产生被磨耗变小的研磨介质随着矿浆“溜走”的情况，从而污染冶炼生产线上的后续管道及设备。

介质磨矿流程上存在的这些问题，严重降低细磨效果及增加系统故障概率，最终影响整个硫化铜氧压浸出的生产效率。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案如下：

一种硫化铜氧压浸出原料细磨系统，包括搅拌槽、三通阀、过滤箱、介质磨和沉槽箱；所述过滤箱内设置有两个滤斗，所述滤斗的底部设有滤孔，所述滤孔直径≤950μm；所述过滤箱的中间设有隔板，所述过滤箱底部设置有斜坡，所述隔板靠近斜坡的一端设有通孔，所述斜坡较低一侧位于过滤箱的出料口处；所述三通阀的入口与搅拌槽的出料口相连通，所述三通阀的两个出口分别与两个滤斗的入料口相连通；所述过滤箱的出料口通过矿浆泵与介质磨的入料口相连通；所述介质磨的出料口处设有分离筛环，分离筛环的筛孔直径≤800μm，所述介质磨的出料口与沉槽箱的入料口相连通；所述沉槽箱的上端设有沉槽箱出液口，所述沉槽箱的底部设有沉槽箱出料口。

优选地，所述过滤箱设有支撑面，所述滤斗设有凸缘，所述凸缘位于支撑面上；所述滤斗的两侧对称设有提手。

优选地，所述沉槽箱的入料口处设有“直角形”入料导管。

优选地，所述沉槽箱出液口位于沉槽箱的入料口的对面，所述沉槽箱的底部为斜坡形底部，所述出料口位于斜坡形底部较低的一侧。

优选地，所述介质磨的研磨介质的粒径为1.6-1.8mm、比重为6.0-6.2g/cc、莫氏硬度大于等于9。

优选地，所述介质磨的研磨介质为氧化锆珠，氧化锆珠的技术性能为：粒径1.6-1.8mm、四方相95%、比重6.0-6.2g/cc、莫氏硬度9。

本实用新型的有益效果为：

（1）该系统能够阻止非金属矿杂质进入介质磨磨腔内，有效保障研磨对象为少杂质甚至无杂质的硫化铜矿浆，保障研磨后产品粒径分布的均匀性，并且实现在线更换前置滤斗，保障连续生产。