[实用新型]一种光刻胶灌装装置有效

专利信息
申请号: 202020665670.6 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN212127491U 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 宋里千 申请(专利权)人: 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
主分类号: B67C3/26 分类号: B67C3/26;B67C3/22
代理公司: 北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙) 11504 代理人: 韩慧颖
地址: 361000 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 灌装 装置
【说明书】:

实用新型涉及光刻胶生产技术领域,尤其涉及一种光刻胶灌装装置,包括取胶筒,所述取胶筒沿筒周身一圈设置有周向分布的储胶室若干个,储胶室的出口处设置有可滑动盖合所述储胶室的闸板,取胶筒的顶部设置有推动油缸,推动油缸的底部输出端设置有可上下升降的安装架,安装架的底部安装有负压泵,负压泵的输入端设置有吸取管头、负压泵的输出端设置有灌装管头,本实用新型解决了光刻胶无法保持定量灌装涂抹,会影响硅片的产品质量的问题,通过本灌装装置可以确保每一次定量抽取并灌装光刻胶的胶液,灌装过程可持续进行,人工作业量降低,对生产工艺起到了明显的促进作用,硅片产品的生产质量得到提升,适宜推广使用。

技术领域

本实用新型涉及光刻胶生产技术领域,尤其涉及一种光刻胶灌装装置。

背景技术

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。

硅片制造工艺中,光刻胶在喷涂之前需要将其灌装到指定容器中,然后通过容器将其涂在硅片上,现有的光刻胶灌装最为常见的方式还是人工灌装,这样的工作方式下,每一次灌装涂用的光刻胶的胶液量无法保持一致,会影响产品的加工质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的光刻胶无法保持定量灌装涂抹,会影响硅片的产品质量的缺点,而提出的一种光刻胶灌装装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种光刻胶灌装装置,包括取胶筒,所述取胶筒沿筒周身一圈设置有周向分布的储胶室若干个,储胶室的出口处设置有可滑动盖合所述储胶室的闸板,所述取胶筒的顶部设置有推动油缸,推动油缸的底部输出端设置有竖向的推动伸缩臂,推动伸缩臂的底端设置有安装架,安装架的底部安装有负压泵,负压泵的输入端位于下方,输入端设置有吸取管头,吸取管头位于储胶室的上方,负压泵的输出端位于一侧,输出端向外引出输液管道,输液管道远离负压泵的端部设置有灌装管头。

优选的,所述取胶筒的中心插设有驱动轴,驱动轴的一端向外延伸至取胶筒的外侧,驱动轴的外端与旋转电机的输出端呈同心固定连接。

优选的,所述取胶筒的底部放置有胶液储藏盆。

优选的,所述取胶筒在每一个所述的储胶室的侧部对应位置处分别设置有推杆电机,推杆电机的输出端设置有推杆,推杆的端部铰接有闸板。

优选的,所述闸板盖合在储胶室的出口上,闸板由第一闸板和第二闸板组成,第二闸板的一端铰接在取胶筒上,第二闸板的另一端与第一闸板铰接,所述推杆远离推杆电机的一端铰接在第二闸板上。

优选的,所述储胶室的出口内侧壁两壁面对应位置处分别设置有滑轨,所述第一闸板的边缘两侧分别设置有与所述滑轨的位置相适配的导向轮。

本实用新型的有益效果是:通过本方案提出的灌装装置,解决了光刻胶无法保持定量灌装涂抹,会影响硅片的产品质量的问题,通过本灌装装置可以确保每一次定量灌装光刻胶的胶液,灌装过程可持续进行,降低人工操作的作业量,对生产工艺起到了明显的促进作用,大大提升了硅片产品的生产质量,使用效果好,适宜推广使用。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种光刻胶灌装装置的主视结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种光刻胶灌装装置的俯视结构示意图;

图3为本实用新型提出的一种光刻胶灌装装置的闸板结构示意图。

图中:1胶液储藏盆、2取胶筒、3驱动轴、4储胶室、5推杆电机、6闸板、61第一闸板、62第二闸板、7推杆、8滑轨、9推动油缸、10安装架、11负压泵、12吸取管头、13输液管道、14灌装管头、15旋转电机、16导向轮。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门恒坤新材料科技股份有限公司,未经厦门恒坤新材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020665670.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top