[实用新型]具沉积层的封装结构有效

专利信息
申请号: 202020666930.1 申请日: 2020-04-28
公开(公告)号: CN211700327U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 陈宗庆 申请(专利权)人: 扬州艾笛森光电有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/54
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 225000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沉积 封装 结构
【权利要求书】:

1.一种具沉积层的封装结构,其特征在于,包含:

一支撑座,其内具有一凹槽;

一发光源,位于该支撑座的该凹槽中;以及

一低温沉积层,覆盖该发光源,且该低温沉积层为无机层。

2.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该低温沉积层直接接触该发光源的顶面与侧壁。

3.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该低温沉积层为氮化铝层或氧化铝层。

4.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该低温沉积层的厚度为1-10个原子级别的厚度或150-1000个原子级别的厚度。

5.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该低温沉积层共形地位于该发光源上。

6.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该凹槽具有一槽底与围绕该槽底的一侧壁,该发光源位于该凹槽的该槽底上,且该低温沉积层的一部分位于该凹槽的该侧壁与该发光源的侧壁之间。

7.根据权利要求6所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该低温沉积层直接接触该凹槽的该侧壁。

8.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该支撑座的顶面与该低温沉积层的顶面齐平,或低于该低温沉积层的顶面。

9.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该发光源的底面具有一电极,该支撑座的底面具有一电极,且该发光源的该电极电性连接该支撑座的该电极。

10.根据权利要求1所述的具沉积层的封装结构,其特征在于,该发光源为覆晶发光二极管,其包含紫外光短波发光二极管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州艾笛森光电有限公司,未经扬州艾笛森光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020666930.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top