[实用新型]一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置有效

专利信息
申请号: 202020669613.5 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN211629049U 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 严立巍;施放;李景贤 申请(专利权)人: 绍兴同芯成集成电路有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 王依
地址: 312000 浙江省绍兴市越城区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 环形 玻璃 蚀刻 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置,属于蚀刻设备领域。一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置,包括:底座;支撑盘,水平布置于所述底座上,并与所述底座转动连接,用于放置工件;夹具,固定安装在所述支撑盘上,用于夹紧所述工件;腐蚀液喷嘴,设置于所述工件的上方,用于向所述工件的加工表面喷洒腐蚀液;保护性流体喷头,所述布置于所述工件上方,用于向所述工件边缘喷射流体。与现有的蚀刻装置相比,本身申请的蚀刻装置专用于蚀刻环形的玻璃载板与晶圆,通过喷射流体保护边缘区域,并且能够控制边缘保护的宽度。

技术领域

本实用新型涉及蚀刻设备领域,具体涉及一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置。

背景技术

现随着IC芯片工艺技术的发展,晶圆直径逐步增大到300mm,晶圆在封装前的厚度越来越薄,为保证被加工对象的刚性/强度,降低碎片的风险,将晶圆与玻璃载板键合之后再进行后续的加工,已经成为半导体行业内的普遍做法。

由于使用中央薄化的玻璃载板搭载晶圆时,能够优化后续的晶圆加工工艺。为了得到中央薄、边缘厚环形玻璃载载板,需要通过蚀刻机对玻璃载板的表面进行蚀刻加工,但是目前现有技术中,没有专用于环形玻璃载板的蚀刻设备,并且现有的蚀刻装置无法较为精确地控制蚀刻区域的尺寸。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提出了一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置,专用于加工中央薄、边缘厚的环形玻璃载板,并且能控制环形玻璃载板环形部分的尺寸与形状的技术问题。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现:

一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置,包括:

底座;

支撑盘,水平布置于所述底座上,并与所述底座转动连接,用于放置工件;

夹具,固定安装在所述支撑盘上,用于夹紧所述工件;

腐蚀液喷嘴,设置于所述工件的上方,用于向所述工件的加工表面喷洒腐蚀液;

保护性流体喷头,所述布置于所述工件上方,用于向所述工件边缘喷射流体。

进一步地,所述保护性流体喷头包括输液管道与多个喷头,多个所述喷头固定安装在所述输液管上,且沿着所述支撑盘的径向布置。

进一步地,所述支撑盘上开设有若干通孔。

进一步地,还包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴喷射流体,清洗和/或烘干所述工件。

进一步地,所述清洗喷嘴喷射的流体为纯水和/或氮气。

进一步地,所述喷头呈梳状。

进一步地,还包括环形托盘,所述环形托盘围绕所述支撑盘布置,其内环部低于所述工件的加工面,且其外沿高于所述工件的加工面。

进一步地,所述腐蚀液喷射的液体包括氢氟酸。

进一步地,所述保护性流体喷头喷射的流体为氮气或纯水。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

图1为本申请蚀刻装置的立体结构示意图;

图2为本申请的蚀刻装置中的腐蚀液溢流示意图;

图3为本申请的一个实施例中的保护性流体喷头移动示意图;

图4为本申请的又一个实施例的多个多个保护性流体喷头布置示意图。

具体实施方式

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