[实用新型]线性串联的原子层沉积系统

权利要求书

1.一种线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述原子层沉积系统包括：

真空放卷装置，所述真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；

真空收卷装置，与所述真空放卷装置间隔设置，所述真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；

至少一个真空沉积装置，设于所述真空放卷装置和所述真空收卷装置之间，并依次连接；所述真空沉积装置用于对所述卷料沉积处理；及

至少一个真空卷料辅助装置，所述真空卷料辅助装置设于相邻两个所述真空沉积装置之间、和/或所述真空沉积装置与所述真空放卷装置之间、和/或所述真空沉积装置与所述真空收卷装置之间；所述真空卷料辅助装置用于实现卷料的张力控制、和/或动力提供、和/或加热冷却、和/或卷料纠偏；

其中，所述真空放卷装置、所述真空收卷装置、所述真空沉积装置和所述真空卷料辅助装置中的任意相邻的两者之间可拆卸连接而形成相互连通的真空系统。

2.如权利要求1所述的线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述真空卷料辅助装置包括机壳和设于所述机壳内的张紧组件，所述张紧组件包括第一传送辊和两个第二传动辊，两个所述第二传动辊设置于所述第一传送辊两侧并与所述第一传送辊平行设置；其中，所述第一传送辊与两个所述第二传动辊分别位于卷料的两侧，所述卷料在所述第一传送辊与两个所述第二传动辊构成的传送路径上呈弯曲状传送。

3.如权利要求2所述的线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述真空卷料辅助装置还包括设于所述机壳内的纠偏组件，所述纠偏组件与所述张紧组件呈间隔设置；

所述纠偏组件包括直线导轨、连接板、传动轴承及驱动件；所述直线导轨设置于所述机壳；所述连接板上设置有滑槽，所述滑槽与直线导轨滑动配合；所述传动轴承的内圈与所述连接板固定连接；所述驱动件连接至所述连接板，以驱动所述连接板在所述直线导轨上来回滑动。

4.如权利要求3所述的线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述真空卷料辅助装置还包括设于所述真空放卷装置和与其相邻的所述真空沉积装置之间的预加热组件；

所述预加热组件包括输送平台、第一加热箱、第一进气机构及第一加热机构；所述第一加热箱设于所述输送平台的上方，所述第一加热箱开具有第一进气口和第一出气口，所述第一出气口朝向所述输送平台设置；所述第一进气机构连通于所述第一进气口，并对所述第一加热箱内充入气体；所述第一加热机构连接于所述第一加热箱，并对所述第一加热箱进行加热；所述第一加热箱内的气体经所述第一加热机构加热后，从所述第一出气口排出，以对所述输送平台上的膜材加热。

5.如权利要求4所述的线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述真空卷料辅助装置还包括设于所述真空收卷装置和相邻的所述真空沉积装置之间的冷却组件；

所述冷却组件包括一个冷却辊和两个传动辊，两个所述传动辊分别设于所述冷却辊的两侧，所述冷却辊设有内腔，所述内腔用于充入冷却液；所述卷料传动于所述冷却辊和两个所述传动辊，以使所述冷却辊对所述卷料的表面冷却。

6.如权利要求5所述的线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述真空卷料辅助装置还包括设于相邻的真空沉积装置之间的动力组件；

所述动力组件包括一个主动辊、至少一个辅助辊及与所述主动辊传动连接的驱动件，多个所述辅助辊均与所述主动辊传动连接，所述卷料传动于所述主动辊和所述辅助辊，以使所述驱动件驱动所述主动辊带动所述卷料移动。

7.如权利要求2至6中任一项所述的线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述线性串联的原子层沉积系统还包括多个隔断装置和所述真空沉积装置，每一所述真空沉积装置与相邻的所述真空卷料辅助装置之间设有一所述隔断装置，且所述隔断装置靠近所述真空收卷装置设置；

所述隔断装置包括隔断壳和设于所述隔断壳外壁的第一进气机构，所述隔断壳与所述真空沉积装置连通，所述第一进气机构用于向所述隔断壳内充入惰性气体。

8.如权利要求7所述的线性串联的原子层沉积系统，其特征在于，所述真空沉积装置与所述隔断装置之间设有隔板，所述隔板设有狭缝，所述狭缝用于供卷料通过。