[实用新型]线性串联的原子层沉积系统

说明书

本实用新型公开一种线性串联的原子层沉积系统，其中，所述线性串联的原子层沉积系统包括真空放卷装置、真空收卷装置、至少一个真空沉积装置及至少一个真空卷料辅助装置，真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；真空收卷装置与真空放卷装置间隔设置，真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；至少一个真空沉积装置设于真空放卷装置和真空收卷装置之间，并依次连接；真空沉积装置用于对卷料沉积处理；真空卷料辅助装置设于相邻两个真空沉积装置之间、和/或真空沉积装置与真空放卷装置之间、和/或真空沉积装置与真空收卷装置之间。本实用新型技术方案调整卷料在传送过程中的位置，以改善卷料表面的原子沉积效果。

技术领域

本实用新型涉及原子层沉积技术领域，特别涉及一种线性串联的原子层沉积系统。

背景技术

现有技术中，原子层沉积工艺是在卷料的传送过程中，在卷料表面不断沉积单层原子层；卷料从真空放卷装置传送到真空收卷装置的过程中，可能出现位置偏离，导致卷料沉积不均匀。

上述内容仅用于辅助理解本申请的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种线性串联的原子层沉积系统，旨在调整卷料在传送过程中的位置，以改善卷料表面的原子沉积效果。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种种线性串联的原子层沉积系统，所述原子层沉积系统包括：

真空放卷装置，所述真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；

真空收卷装置，与所述真空放卷装置间隔设置，所述真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；

至少一个真空沉积装置，设于所述真空放卷装置和所述真空收卷装置之间，并依次连接；所述真空沉积装置用于对所述卷料沉积处理；及

至少一个真空卷料辅助装置，所述真空卷料辅助装置设于相邻两个所述真空沉积装置之间、和/或所述真空沉积装置与所述真空放卷装置之间、和/或所述真空沉积装置与所述真空收卷装置之间；所述真空卷料辅助装置用于实现卷料的张力控制、和/或动力提供、和/或加热冷却、和/或卷料纠偏；

其中，所述真空放卷装置、所述真空收卷装置、所述真空沉积装置和所述真空卷料辅助装置中的任意相邻的两者之间可拆卸连接而形成相互连通的真空系统。

在一实施例中，所述真空卷料辅助装置包括机壳和设于所述机壳内的张紧组件，所述张紧组件包括第一传送辊和两个第二传动辊，两个所述第二传送辊设置于所述第一传送辊两侧并与所述第一传送辊平行设置；其中，所述第一传送辊与两个所述第二传送辊分别位于卷料的两侧，所述卷料在所述第一传送辊与两个所述第二传送辊构成的传送路径上呈弯曲状传送。

在一实施例中，所述真空卷料辅助装置还包括设于所述机壳内的纠偏组件，所述纠偏组件与所述张紧组件呈间隔设置；

所述纠偏组件包括直线导轨、连接板、传动轴承及驱动件；所述直线导轨设置于所述机壳；所述连接板上设置有滑槽，所述滑槽与直线导轨滑动配合；所述传动轴承的内圈与所述连接板固定连接；所述驱动件连接至所述连接板，以驱动所述连接板在所述直线导轨上来回滑动。

在一实施例中，所述真空卷料辅助装置还包括设于所述真空放卷装置和与其相邻的所述真空沉积装置之间的预加热组件；

所述预加热组件包括输送平台、第一加热箱、第一进气机构及第一加热机构；所述第一加热箱设于所述输送平台的上方，所述第一加热箱开具有第一进气口和第一出气口，所述第一出气口朝向所述输送平台设置；所述第一进气机构连通于所述第一进气口，并对所述第一加热箱内充入气体；所述第一加热机构连接于所述第一加热箱，并对所述第一加热箱进行加热；所述第一加热箱内的气体经所述第一加热机构加热后，从所述第一出气口排出，以对所述输送平台上的膜材加热。