[实用新型]一种用于化学机械抛光的修整器和化学机械抛光装置

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的修整器，包括基座组件、传动轴和修整组件，所述传动轴同轴设置于所述基座组件内，所述修整组件设置于所述基座组件下侧并随所述传动轴转动；其特征在于，所述基座组件包括基座，所述基座为中部开孔的环状结构；所述环状结构的内设置有磁敏传感器，所述修整组件内设置有磁铁，所述磁敏传感器检测所述磁铁形成的磁场的磁感应强度以测量修整组件相对于基座组件的位置。

2.如权利要求1所述的修整器，其特征在于，所述基座由奥氏体不锈钢制成，其顶面设置有凹槽，所述磁敏传感器设置于所述凹槽内。

3.如权利要求1所述的修整器，其特征在于，所述修整组件包括防护罩，所述防护罩的内部设置有安装孔，所述磁铁粘接于所述安装孔。

4.如权利要求1所述的修整器，其特征在于，所述磁铁为铁氧体永磁铁，其磁场等级为中磁性或强磁性。

5.如权利要求1所述的修整器，其特征在于，所述多个磁铁形成的磁感应强度为0.2T-2.5T。

6.如权利要求2所述的修整器，其特征在于，所述磁敏传感器可检测0.01mm-20mm范围内的磁感应强度变化。

7.如权利要求6所述的修整器，其特征在于，所述磁敏传感器的数量为多个，其沿所述基座的中心均布设置。

8.如权利要求4所述的修整器，其特征在于，所述磁铁的高度为1mm-30mm。

9.一种化学机械抛光装置，其包括抛光盘、承载头、供液装置和修整装置；其特征在于，所述修整装置包括权利要求1-8任一项所述的修整器。