[实用新型]导电薄膜及触控装置

说明书

本实用新型公开了一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，所述电传导层的材料为金属，所述电传导层包含最高点和最低点，且最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm，所述耐候层上具有复数个凹槽。解决了现有技术中金属作为电传导层，岛状结构引起的电传导效果不佳的问题，同时提高了导电薄膜的透光率。

技术领域

本实用新型涉及导电薄膜，尤其涉及一种显示领域的低阻导电薄膜。

背景技术

近年来，低阻导电薄膜因其低电阻被广泛应用于各个领域中，包括太阳能电池、图像传感器、液晶显示器、有机电致发光(OLED)和触摸屏面板。在这些领域两种，行业追求的是需要的波长范围内大的光学透明度和适当的电导率，并且不断在改革创新。

低阻导电薄膜结构中，通常采取复合叠层结构，其中关键的一层电传导层通常是采用金属层，其中该电传导层有两个重要的参数影响该低阻导电薄膜结构，一是导电率，二是光透过率。即该电传导层不宜太厚，否则影响光透过率，同时该电传导层不宜太薄，太薄的情况下，金属的特性导致制程容易出现岛状结构，即整个金属膜层不连续的孤岛形态，岛状结构影响金属粒子迁移，从而影响低阻导电薄膜的导电率。

实用新型内容

为解决现有技术存在的问题，本实用新型提出了1.一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，所述电传导层的材料为金属，所述电传导层包含最高点和最低点，且最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm，所述耐候层上具有复数个凹槽。

优选的，所述电传导层的厚度小于或等于10nm。

优选的，所述金属为银、铜或铜银合金。

优选的，所述凹槽为条状或点状。

优选的，所述凹槽的深度为2nn-3nm。

优选的，所述凹槽的宽度小于等于4nm。

优选的，所述凹槽通过激光在耐候层上形成。

优选的，所述电传导层是通过磁控溅射的方法形成，所述溅射的方法包括将金属靶材放于充有惰性气体的腔室内，在溅射过程中通入氧气或氮气。

优选的，所述惰性气体为氩气，氩气的充入量为280-320sccm。

本实用新型解决了现有技术中金属作为电传导层，岛状结构引起的电传导效果不佳的问题，同时提高了导电薄膜的透光率。

本实用新型还提供了一种包含以上导电薄膜的触控装置。该触控装置具有良好的透光效果和灵敏度。

附图说明

图1为本实用新型导电薄膜结构的一个实施例的剖视图。

具体实施方式

通过在本实用新型所提出的叠层结构中对于多种元件的位置使用例如“顶上”、“上”、“最上”、“下面”等取向单词，我们是指元件相对于水平设置的、面向上的支承体的相对位置。并不预期膜或制品在其制造期间或者之后在空间中应该具有任何具体取向。

本实用新型的“岛状结构”是指金属在承载层上微观呈现像岛屿一样形成的结构，该岛屿不与其他岛屿相连接。

本实用新型的“连续结构”是指金属在承载层上微观呈现像山脉连延的形状，在低谷也必须相连，也可以指金属上呈现平整的层状结构。

术语“光学透明的”当用于膜或层合的玻璃制品时是指通过肉眼在约1米的距离处检测，在膜或制品中没有视觉上可见的失真、模糊或缺陷。