[实用新型]一种等离子刻蚀机

说明书

本实用新型提出了一种等离子刻蚀机，该等离子刻蚀机包括一刻蚀腔体和一加热板；刻蚀腔体的敞开端固定一陶瓷介质窗；陶瓷介质窗的上方固定一产生等离子体的等离子体耦合线圈；加热板固定在一屏蔽罩内；屏蔽罩的下端敞开；屏蔽罩位于刻蚀腔体的上方且固定在刻蚀腔体上；加热板固定在陶瓷介质窗朝向等离子体耦合线圈的表面；加热板上开设用于供等离子体穿过的预留间隙；加热板通过一供电电路连接一加热电源。本实用新型将加热板直接贴合在陶瓷介质窗上，通过对加热板通电以对陶瓷介质窗直接进行加热。因此加热板的加热效率高，热量散失少，避免屏蔽罩的过热现象，无需在屏蔽罩外增设保护罩。

技术领域

本实用新型属于机械加工设备技术领域，尤其涉及一种等离子刻蚀机。

背景技术

等离子刻蚀机，通过向真空刻蚀机腔体内引入含有适当刻蚀剂或淀积源气体的反应气体，然后再对该刻蚀机腔体施加射频能量，以解离反应气体生成等离子体，用来对放置于刻蚀机腔体内的基片表面进行加工。等离子刻蚀机设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。刻蚀腔的主要组成部分有：等离子体耦合线圈、陶瓷介质窗、ICP射频单元、RF射频单元、下电极系统、温控系统等组成。其中等离子体耦合线圈位于腔室的上方真空外，陶瓷介质窗位于腔室和等离子体耦合线圈之间，陶瓷介质窗既能密封真空又不影响等离子体穿过进入腔体，但在等离子体刻蚀的过程中，刻蚀出的产物会沉积到陶瓷介质窗上，长时间沉积会对等离子体产生不利影响，也可能会产生颗粒影响刻蚀过程。通常，陶瓷介质窗加热是减少沉积的重要手段。目前，现有等离子体刻蚀机陶瓷介质窗加热有采用风暖加热的方式，但这种加热方式由于暖风四散加热效率低，而且容易使陶瓷介质窗以外的侧壁也产生高温，容易使操作者烫伤、元器件易损等问题，需要使用很复杂的保护装置，成本高又不利于散热。如图1~2为现有的等离子体刻蚀机陶瓷介质窗的加热装置，包括等离子体耦合线圈1、陶瓷介质窗2、金属内屏蔽罩3、加热网4、送热风扇5和外屏蔽罩6。等离子体耦合线圈1产生等离子体穿过陶瓷介质窗2，在刻蚀腔体22内通入反应气体，反应气体和等离子体耦合线圈1共同对衬底片进行刻蚀工艺，同时加热网4产生热量，经所述送热风扇5按示意图箭头所示方向吹送至所述陶瓷介质窗2进行加热，金属内屏蔽罩3会随着风热四散而温度越来越高，易对操作者产生伤害，进而设置所述外屏蔽罩6进行保护。如图2所示，陶瓷介质窗2通过紧固件固定刻蚀腔体22的内壁上，等离子体耦合线圈1位于陶瓷介质窗上方，多个等离子体耦合线圈1之间通过绝缘板连接后，通过紧固件固定在金属内屏蔽罩3的内壁上。

综上，现有技术中的加热方式存在以下缺陷：1）送热风扇5送热导致金属内屏蔽罩3内的热量四散，加热网的加热效率低；2）加热网4对陶瓷介质窗2进行加热的同时，对等离子体线圈1及其他电器元件如匹配器等同时也进行加热，金属内屏蔽罩3高温，为避免金属内屏蔽罩3伤人，在外面设置外屏蔽罩6，导致该加热结构的结构复杂，既占用额外空间又会增加成本。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种等离子刻蚀机，将加热板直接贴合在陶瓷介质窗上，通过对加热板通电，使加热板对陶瓷介质窗直接进行加热。因此加热板的加热效率高，热量散失少，避免屏蔽罩的过热现象，无需在屏蔽罩外增设保护罩。在加热过程中，由于加热板的预留间隙设计，可避免加热板对等离子体的影响。为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

本实用新型提出了一种等离子刻蚀机，包括一刻蚀腔体和一加热板；所述刻蚀腔体的敞开端固定一陶瓷介质窗；所述陶瓷介质窗的上方固定一产生等离子体的等离子体耦合线圈；所述加热板固定在一屏蔽罩内；所述屏蔽罩的下端敞开；所述屏蔽罩位于所述刻蚀腔体的上方且固定在所述刻蚀腔体上；

所述加热板固定在所述陶瓷介质窗朝向所述等离子体耦合线圈的表面；所述加热板上开设用于供所述等离子体穿过的预留间隙；所述加热板通过一供电电路连接一加热电源。

优选地，所述陶瓷介质窗的上段固定在所述屏蔽罩内。

优选地，所述加热板为圆形；所述加热板包括多条沿圆周分布的加热丝；相邻所述加热丝之间围成所述预留间隙。