[实用新型]一种适用于多种尺寸晶圆的匀胶托盘

说明书

本实用新型公开了一种适用于多种尺寸晶圆的匀胶托盘，包括托盘，托盘的顶部开设有环形真空槽，托盘的顶部中心处开设有与环形真空槽相连通的真空孔，托盘的下侧壁固定连接有套接在真空管外侧壁的大气管，托盘的上表面开设有第一大气槽，第一大气槽的底部开设有第一大气孔，第一大气孔通过第一连接管与大气管相连通，托盘的顶部吸附有晶圆。使晶圆的边缘与托盘接触的位置的压强与大气管内的压强相同，两个位置不存在压差，因此光刻胶不会进入到托盘中心处的真空管内，避免了对真空泵造成堵塞，封堵机构的密封块的位置进行调节，从而满足不同尺寸晶圆边缘处与大气管的连通，适用于不同尺寸的晶圆的吸附固定，节约成本。

技术领域

本实用新型涉及纳米压印技术领域，具体为一种适用于多种尺寸晶圆的匀胶托盘。

背景技术

现有纳米压印工艺中，旋转匀胶工艺是常用的光刻胶匀胶工艺，此工艺可利用旋转离心力将多余的光刻胶从晶圆表面去除，并最终形成一层均匀的薄膜。但在实际使用过程中，经常会出现真空管路进胶堵塞真空泵等问题。在专利号为CN201920689435.X的实用新型专利中公开了“匀胶机真空匀胶装置”用于解决上述问题，但是一个托盘只能适用于一种尺寸，不同尺寸的晶圆需要使用到不同尺寸的托盘，成本较高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种适用于多种尺寸晶圆的匀胶托盘，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种适用于多种尺寸晶圆的匀胶托盘，包括托盘，所述托盘的顶部开设有环形真空槽，所述托盘的顶部中心处开设有与环形真空槽相连通的真空孔，所述托盘的底部固定连接有与真空孔相连接的真空管的一端，所述真空管的另一端固定连接真空泵，所述托盘的下侧壁固定连接有套接在真空管外侧壁的大气管，所述托盘的上表面开设有第一大气槽，所述第一大气槽的底部开设有第一大气孔，所述第一大气孔通过第一连接管与大气管相连通，所述托盘的顶部用于放置晶圆，所述大气管内固定装配有封堵机构。

优选的，所述托盘的顶部开设有第二大气槽，所述第二大气槽的底部开设有第二大气孔，所述第二大气孔通过第二连接管与大气管相连通。

优选的，所述托盘的顶部开设有第三大气槽，所述第三大气槽的底部开设有第三大气孔，所述第三大气孔通过第三连接管与大气管相连通。

优选的，所述封堵机构包括左右对称固定安装在大气管内腔的电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的输出端固定连接有密封块，所述密封块套接在大气管的内腔。

优选的，所述密封块包括上密封块和下密封块，所述上密封块采用硬质橡胶制作而成，所述下密封块采用硅橡胶制作而成。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：一种适用于多种尺寸晶圆的匀胶托盘，通过托盘中心处的真空孔与真空管的连通，真空泵开启后通过环形真空槽对晶圆进行吸附，设置有大气管和封堵机构，通过保持所吸附固定的晶圆外侧边缘处的大气槽与大气管进行连通，从而使晶圆的边缘与托盘接触的位置的压强与大气管内的压强相同，两个位置不存在压差，因此光刻胶不会进入到托盘中心处的真空管内，避免了对真空泵造成堵塞，通过所吸附固定的晶圆的尺寸不同，对封堵机构的密封块的位置进行调节，从而满足不同尺寸晶圆边缘处与大气管的连通，适用于不同尺寸的晶圆的吸附固定，节约成本。

附图说明

图1为本实用新型吸附小尺寸晶圆时的结构示意图。

图2为本实用新型吸附中尺寸晶圆时的结构示意图。

图3为本实用新型吸附大尺寸晶圆时的结构示意图。