[实用新型]一种连续沉积金刚石薄膜设备有效
申请号: | 202020739466.4 | 申请日: | 2020-05-08 |
公开(公告)号: | CN212293743U | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 玄真武;李勇;张怡;何敬晖 | 申请(专利权)人: | 中材人工晶体研究院有限公司;北京中材人工晶体研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/27 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 赵奕 |
地址: | 100018 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 连续 沉积 金刚石 薄膜 设备 | ||
1.一种连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置,其中,所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接,预沉积室内充入基片沉积时所需气氛气体,预沉积室内的当前批次基片在所述基片传输装置传输下进入所述沉积室内,同时,所述沉积室内已完成金刚石薄膜沉积的基片经所述基片传输装置传输至所述制品待取室,在所述沉积室内当前热丝结构的作用下,依次对进入所述沉积室的多批次基片进行金刚石薄膜沉积。
2.根据权利要求1所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述预沉积室与所述沉积室连通时,所述预沉积室与所述沉积室内的气体气氛一致。
3.根据权利要求1所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述热丝结构为热丝阵列结构。
4.根据权利要求1所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述预沉积室与所述沉积室之间设置第一隔离门,通过所述第一隔离门的开启与关闭实现所述预沉积室与所述沉积室的连通与隔断;
所述沉积室与所述制品待取室之间设置第二隔离门,通过所述第二隔离门的开启与关闭实现所述沉积室与所述制品待取室的连通与隔断。
5.根据权利要求1-4任一所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述基片传输装置包括沉积冷却台,所述沉积冷却台置于所述沉积室内,所述沉积冷却台分别连接冷却水进口、冷却水出口。
6.根据权利要求5所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述预沉积室、沉积室、制品待取室均连接用于排除相应腔室体内空气的本底泵,其中,所述沉积室还连接沉积时通过抽取所述沉积室腔室内气体用于维持腔室内压力的工作泵。
7.根据权利要求6所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述预沉积室通过预沉积室抽气阀与本地泵连接,所述沉积室通过沉积室抽气阀与本地泵连接,制品待取室通过待取室抽气阀与本地泵连接,且在所述预沉积室与预沉积室抽气阀之间的管道、制品待取室与待取室抽气阀之间的管道上均设置充气阀,所述沉积室通过调节阀与所述工作泵连接,其中,所述沉积室与调节阀之间管道的前区段与所述沉积室与沉积室抽气阀之间管道的前区段共用。
8.根据权利要求6所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述预沉积室、沉积室、制品待取室均通过相应的进气阀连接甲烷与氢气混合装置,所述甲烷与氢气混合装置分别通过流量计连接甲烷气体盛装装置、氢气气体盛装装置。
9.根据权利要求8所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,当基片上金刚石薄膜沉积厚度达到设定厚度时,当前基片即被传输出所述的沉积室。
10.根据权利要求9所述的连续沉积金刚石薄膜设备,其特征是,所述设定厚度为0.5-10μm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的