[实用新型]外延硅片预处理系统

权利要求书

1.外延硅片预处理系统，其特征在于，包括空气压缩机(1)、臭氧发生机(2)、鼓泡瓶(3)、流量计(4)和喷射装置(5)；

所述空气压缩机(1)、臭氧发生机(2)、鼓泡瓶(3)通过第一进气管顺次连接，所述第一进气管的出口端插入鼓泡瓶(3)内水面以下；

所述鼓泡瓶(3)和喷射装置(5)通过排气管连接，所述排气管上设置有流量计(4)，所述排气管的入口端在鼓泡瓶(3)内水面以上；

所述喷射装置(5)用于将臭氧喷射在外延硅片的表面，所述鼓泡瓶(3)内的水保持恒温。

2.根据权利要求1所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述喷射装置(5)包括连接管(51)，所述连接管(51)一端与喷射头(52)连通，另一端与排气管可拆卸式连接，所述喷射头(52)上均匀设置有若干喷射孔，所述喷射头(52)设置在载片台上方。

3.根据权利要求2所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述连接管(51)排气管通过卡套连接。

4.根据权利要求2所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述喷射头(52)为平板莲蓬式喷射头。

5.根据权利要求2所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述喷射头(52)与连接管(51)通过卡套连接。

6.根据权利要求2所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述喷射孔为锥形孔，所述锥形孔的内径自进气端到排气端呈逐渐增大的趋势。

7.根据权利要求1所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述空气压缩机(1)设置有2个，其中一个通过第一进气管与臭氧发生机(2)连接，另一个通过第二进气管与鼓泡瓶(3)连接，所述第二进气管的出口端插入鼓泡瓶(3)内水面以下。

8.根据权利要求7所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述鼓泡瓶(3)包括配套的瓶身和瓶盖，所述瓶盖设置有3个通孔，3个通孔分别与第一进气管、第二进气管和排气管配合，所述通孔与第一进气管、第二进气管和排气管之间通过橡胶塞密封。

9.根据权利要求1所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，所述空气压缩机(1)设置有1个，输出压缩空气分成两路，其中一个通过第一进气管与臭氧发生机(2)连接，另一个通过第二进气管与鼓泡瓶(3)连接，所述第二进气管的出口端插入鼓泡瓶(3)内水面以下。

10.根据权利要求1-9任一项所述的外延硅片预处理系统，其特征在于，还包括恒温水浴装置，所述鼓泡瓶(3)置于恒温水浴装置内。