[实用新型]电极结构和电化学沉积设备

权利要求书

1.一种电极结构，用于电化学沉积设备中，其特征在于，所述电极结构包括：

支撑架；

设置在所述支撑架上的金属网和多个导电条，所述导电条与所述金属网电连接，所述导电条包括：导电主体和包覆所述导电主体的保护层，所述导电主体的导电率大于所述保护层的导电率。

2.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，多个所述导电条中的至少一者沿所述金属网的长度方向延伸，其余的所述导电条中的至少一者沿所述金属网的宽度方向延伸。

3.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述电极结构被划分为多个分区，所述支撑架包括位于每个分区中的支撑部，每个分区中均设置有所述导电条，所述金属网位于不同分区的部分相互绝缘。

4.根据权利要求3所述的电极结构，其特征在于，多个所述分区包括中部分区和环绕所述中部分区的至少一个边缘分区。

5.根据权利要求4所述的电极结构，其特征在于，所述中部分区沿第一方向的尺寸为所述边缘分区沿所述第一方向的尺寸的1～3倍，所述中部分区沿第二方向的尺寸为所述边缘分区沿所述第二方向的尺寸的1～3倍，所述第一方向为所述电极结构的长度方向，所述第二方向为所述电极结构的宽度方向。

6.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述支撑架的材料与所述金属网的材料相同。

7.一种电化学沉积设备，其特征在于，包括：具有容纳槽的槽体、基板载具和权利要求1至6中任意一项所述的电极结构，所述容纳槽用于容纳电镀液，所述电极结构设置在所述容纳槽中，所述基板载具用于装载待电镀的基板。

8.根据权利要求7所述的电化学沉积设备，其特征在于，所述电化学沉积设备还包括与所述电极结构一一对应的分流板，所述分流板设置在相应的电极结构朝向所述基板载具的一侧，其中，所述分流板包括：容纳壳体和多个回液管路，所述容纳壳体包括：第一壁、与所述第一壁相对设置的第二壁以及连接在所述第一壁与所述第二壁之间的侧壁，所述第一壁位于所述第二壁朝向所述基板载具的一侧，所述第一壁、所述第二壁和所述侧壁围成容纳腔，所述容纳壳体上设置有进液口和多个出液口，所述进液口和所述出液口均与所述容纳腔连通，所述出液口设置在第一壁上；所述回液管路穿过所述容纳腔，所述回液管路沿所述分流板的厚度方向穿过所述容纳壳体。

9.根据权利要求8所述的电化学沉积设备，其特征在于，所述电化学沉积设备还包括排液管路，所述排液管路的入口与所述容纳槽连通，

所述电化学沉积设备还包括：过滤装置，所述过滤装置具有过滤入口和过滤出口，所述过滤入口与所述排液管路的出口连通，所述过滤出口与所述分流板的进液口连通，所述过滤装置用于对流入其过滤入口的电镀液进行过滤。

10.根据权利要求9所述的电化学沉积设备，其特征在于，所述排液管路包括沿所述槽体的高度方向延伸的直立部和位于所述电化学沉积设备底部的水平部，所述直立部的入口与所述槽体上的排液口连通，所述直立部的出口与所述水平部的入口连通，所述水平部的出口与所述过滤装置的过滤入口连通，

所述电化学沉积设备还包括排气管路，所述排气管路与所述直立部的顶部连通。

11.根据权利要求7所述的电化学沉积设备，其特征在于，所述电化学沉积设备还包括：输气管路，所述输气管路设置在所述容纳槽内、且位于所述容纳槽底部，所述输气管路具有进气口和多个出气口，所述输气管路的进气口与气源连通，所述出气口用于向所述容纳槽内排出气体。

12.根据权利要求7所述的电化学沉积设备，其特征在于，所述电化学沉积设备还包括：离子补充装置，所述离子补充装置与所述容纳槽连通，用于向所述容纳槽中的电镀液补充电镀用离子。