[实用新型]电极结构和电化学沉积设备有效
申请号: | 202020753538.0 | 申请日: | 2020-05-09 |
公开(公告)号: | CN212505140U | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 袁广才;闫俊伟;张国才;王成飞;董士豪;曹占锋;孙少东;麦轩伟;王大军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C25D17/12 | 分类号: | C25D17/12;C25D21/06;C25D21/12;C25D21/14;C25D21/10;C25D5/54 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 魏艳新;姜春咸 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 结构 电化学 沉积 设备 | ||
本实用新型实施例提供一种用于电化学沉积设备中的电极结构,包括:支撑架;设置在所述支撑架上的金属网和多个导电条,所述导电条与所述金属网电连接,所述导电条包括:导电主体和包覆所述导电主体的保护层,所述导电主体的导电率大于所述保护层的导电率。本实用新型还提供一种电化学沉积设备。本实用新型能够提高电化学沉积的成膜均匀性。
技术领域
本实用新型涉及显示产品的生产领域,具体涉及一种用于电化学沉积设备中的电极结构和电化学沉积设备。
背景技术
电化学沉积工艺是一种低成本的化学性成膜方式,可以沉积得到2~20um厚的具备较低阻值的金属层。目前的电化学沉积设备通常适用于对尺寸较小的玻璃基板进行电化学沉积,而对于尺寸较大的玻璃基板,很容易出现成膜不均匀的问题。
实用新型内容
本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种用于电化学沉积设备中的电极结构和电化学沉积设备。
第一方面,本实用新型提供一种电极结构,用于电化学沉积设备中,所述电极结构包括:
支撑架;
设置在所述支撑架上的金属网和多个导电条,所述导电条与所述金属网电连接,所述导电条包括:导电主体和包覆所述导电主体的保护层,所述导电主体的导电率大于所述保护层的导电率。
在一些实施例中,多个所述导电条中的至少一者沿所述金属网的长度方向延伸,其余的所述导电条中的至少一者沿所述金属网的宽度方向延伸。
在一些实施例中,所述电极结构被划分为多个分区,所述支撑架包括位于每个分区中的支撑部,每个分区中均设置有所述导电条,所述金属网位于不同分区的部分相互绝缘。
在一些实施例中,多个所述分区包括中部分区和环绕所述中部分区的至少一个边缘分区。
在一些实施例中,所述中部分区沿第一方向的尺寸为所述边缘分区沿所述第一方向的尺寸的1~3倍,所述中部分区沿第二方向的尺寸为所述边缘分区沿所述第二方向的尺寸的1~3倍,所述第一方向为所述电极结构的长度方向,所述第二方向为所述电极结构的宽度方向。
在一些实施例中,所述支撑架的材料与所述金属网的材料相同。
第二方面,本实用新型实施例还提供一种电化学沉积设备,包括:具有容纳槽的槽体、基板载具和上述电极结构,所述容纳槽用于容纳电镀液,所述电极结构设置在所述容纳槽中,所述基板载具用于装载待电镀的基板。
在一些实施例中,所述电化学沉积设备还包括与所述电极结构一一对应的分流板,所述分流板设置在相应的电极结构朝向所述基板载具的一侧,其中,所述分流板包括:容纳壳体和多个回液管路,所述容纳壳体包括:第一壁、与所述第一壁相对设置的第二壁以及连接在所述第一壁与所述第二壁之间的侧壁,所述第一壁位于所述第二壁朝向所述基板载具的一侧,所述第一壁、所述第二壁和所述侧壁围成容纳腔,所述容纳壳体上设置有进液口和多个出液口,所述进液口和所述出液口均与所述容纳腔连通,所述出液口设置在第一壁上;所述回液管路穿过所述容纳腔,所述回液管路沿所述分流板的厚度方向穿过所述容纳壳体。
在一些实施例中,所述电化学沉积设备还包括排液管路,所述排液管路的入口与所述容纳槽连通,
所述电化学沉积设备还包括:过滤装置,所述过滤装置具有过滤入口和过滤出口,所述过滤入口与所述排液管路的出口连通,所述过滤出口与所述分流板的进液口连通,所述过滤装置用于对流入其过滤入口的电镀液进行过滤。
在一些实施例中,所述排液管路包括沿所述槽体的高度方向延伸的直立部和位于所述电化学沉积设备底部的水平部,所述直立部的入口与所述槽体上的排液口连通,所述直立部的出口与所述水平部的入口连通,所述水平部的出口与所述过滤装置的过滤入口连通,
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