[实用新型]一种曝光装置有效

专利信息
申请号: 202020779077.4 申请日: 2020-05-12
公开(公告)号: CN212433579U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 钱志斌;李伟成;张雷 申请(专利权)人: 苏州源卓光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215026 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 装置
【说明书】:

一种曝光装置,其包括基座、位于基座上的龙门机构和移动机构、位于所述龙门机构上的曝光机构、位于所述移动机构上的基板台面,基板置于所述基板台面上,所述曝光装置还包括气体保护机构,所述气体保护机构朝向所述基板设置,所述气体保护装置喷射保护气体覆盖曝光机构的曝光区域。通过设置气体保护装置,可以直接对曝光镜头的投射区域输出保护气体,使得基板在曝光时,可以处于无氧的条件,提高基板上油墨层的光泽度。

技术领域

发明涉及曝光领域,具体为一种提高油墨光泽度的曝光装置。

背景技术

曝光技术广泛应用于半导体和PCB生产领域,是制作半导体器件、芯片和PCB板等产品的工艺步骤之一,其用于在基底表面上印刷特征图形,最终获得依据电路设计所需的图形结构。传统的曝光技术需要制作掩膜的母版或者菲林底片进行曝光操作,制作周期长,且每一版对应单一图形,不能广泛应用。为解决传统曝光技术的问题,直写曝光机构应运而生,其利用数字光处理技术,通过可编程的数字反射镜装置实现编辑不同的所需的图形结构,能够快速切换图形,其不仅可以降低成本,还可以减少制程的时间,正广泛应用于曝光技术领域。

直写曝光的原理是通过曝光的方法将设计图像转移到涂覆于基底表面的感光材料上,然后通过显影、刻蚀等工艺,最终获得所需的图形结构。感光材料是曝光工艺中的关键材料之一,常用的感光材料包括光刻胶、防焊油墨,湿膜,干膜等多种材料,其通过光照后形成相对于某些溶剂的可溶物或者不可溶物,通过刻蚀去除或者保留所述光刻胶,形成所需的图形结构。在曝光工艺中,一般包括前处理、涂覆油墨层、前烘、对准曝光、显影、后烘等工序。光泽度是评价曝光后油墨信耐性的一个指标,通常通过测量油墨层的光泽度确定油墨在基板上的牢固度,而目前的曝光装置,油墨层光泽度不佳。

发明内容

本发明旨在提供一种提高油墨层光泽度的曝光装置。

为了实现上述目的,本发明提供一种曝光装置,其包括基座、位于基座上的龙门机构和移动机构、位于所述龙门机构上的曝光机构、位于所述移动机构上的基板台面,基板置于所述基板台面上,所述曝光装置还包括气体保护机构,所述气体保护机构朝向所述基板设置,所述气体保护机构喷射保护气体覆盖曝光机构的曝光区域。

进一步的,所述气体保护机构包括导管,所述导管的出气口为所述气体保护机构的出气口,所述出气口朝向所述曝光机构的投射区域。

进一步的,所述曝光机构包括多个曝光镜头,每个曝光镜头对应设置一个导管,所述导管的出气口位于所述曝光镜头的投射区域外缘,喷射的保护气体覆盖对应曝光镜头的投射区域。

进一步的,所述曝光机构包括多个曝光镜头,至少两个曝光镜头对应设置一个导管,所述导管的出气口位于所述曝光镜头的投射区域外缘,喷射的保护气体覆盖对应曝光镜头的投射区域。

进一步的,所述导管固定于龙门机构。

进一步的,所述导管固定于框架。

进一步的,所述框架平行于所述龙门机构,置于所述基座。

进一步的,所述气体保护机构固定于所述基板台面的一边。

进一步的,所述气体保护机构包括多个均匀设置的出气口。

进一步的,所述气体保护机构包括依次连接的节流阀、流量计、电磁阀、歧管块和导管。

与现有技术相比,通过设置气体保护机构,可以直接对曝光镜头的投射区域输出保护气体,使得基板在曝光时,可以处于无氧的条件,并且无需对曝光机进行封闭抽真空,对曝光机的封闭要求较低即可实现无氧的目的,结构更加简单,操作更加简便。

附图说明

图1为有氧曝光和无氧曝光后油墨层光泽度、能量格的比较。

图2为曝光装置的透视示意图。

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