[实用新型]二维布拉格周期扫描成像系统有效

专利信息
申请号: 202020786662.7 申请日: 2020-05-13
公开(公告)号: CN212031858U 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 王广军;余为伟 申请(专利权)人: 荆门市探梦科技有限公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10
代理公司: 荆门市森皓专利代理事务所(普通合伙) 42253 代理人: 王丽
地址: 448000 湖北省荆门市掇刀区培公大道201号人民万福商贸城C5-5*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 二维 布拉格 周期 扫描 成像 系统
【权利要求书】:

1.二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于,包括:

二维成像元件(1),其上设有由若干像素点组成的像素阵列,所述像素阵列所在平面为像素阵列平面;

成像镜组(2);以及

二维布拉格扫描机构(3),分别与二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)连接,用于驱动二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)振动以实现微扫描的目的;

其中,二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量不为0。

2.根据权利要求1所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:所述二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量可以分解为两个互相垂直的子运动,包括与二维成像元件(1)的像素阵列的行平行的第一子运动以及与二维成像元件(1)的像素阵列的列平行的第二子运动,所述第一子运动频率为f1,第二子运动的频率为f2,且f1和f2均大于6Hz。

3.根据权利要求2所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:所述像素阵列的行的长度为L㎜、行间相邻像素点之间的距离或者平均距离为a1㎜,所述像素阵列的列的长度为W㎜、列间相邻像素点之间的距离或者平均距离为a2㎜,所述第一子运动的振幅为ΔL㎜,所述第二子运动的振幅为ΔW㎜,满足:ΔL≤5a1且ΔW≤5a2

4.根据权利要求3所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:f1>f2,且满足其中M为所述二维成像元件(1)的质量,单位为g。

5.根据权利要求1所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:所述二维成像元件(1)为拍摄感光元件或者投影显示元件。

6.根据权利要求1所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:所述像素阵列的列数和行数均小于720。

7.根据权利要求1所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:还包括用于缩小像素点有效大小的像素点缩小装置。

8.根据权利要求3所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:所述成像镜组(2)在像素阵列平面上的有效光学作用区域内部最大圆形的直径为D㎜,满足如下关系:

0.9746·D2≥(ΔL+L)2+(ΔW+W)2

9.根据权利要求8所述的二维布拉格周期扫描成像系统,其特征在于:所述成像镜组(2)在像素阵列平面上的有效光学作用区域内部最大圆形的直径为D㎜,满足如下关系:

(0.51·D)2≤(ΔL+L)2+(ΔW+W)2

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