[实用新型]二维布拉格周期扫描成像系统有效
申请号: | 202020786662.7 | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN212031858U | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 王广军;余为伟 | 申请(专利权)人: | 荆门市探梦科技有限公司 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10 |
代理公司: | 荆门市森皓专利代理事务所(普通合伙) 42253 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 448000 湖北省荆门市掇刀区培公大道201号人民万福商贸城C5-5*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二维 布拉格 周期 扫描 成像 系统 | ||
本实用新型涉及光学成像领域,公开了一种二维布拉格周期扫描成像系统,包括二维成像元件、成像镜组和二维布拉格扫描机构,二维成像元件上设有由若干像素点组成的像素阵列;二维布拉格扫描机构分别与二维成像元件和/或成像镜组连接,用于驱动二维成像元件和/或成像镜组振动以实现微扫描的目的;二维成像元件和/或成像镜组的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量不为0。本实用新型的系统通过振动微扫描的方式可以用低像素密度、低像素数量的元器件实现超高像素成像的功能;在二维成像元件存在像素坏点的情况下也可以正常使用;同时生产良品率和成本优势明显优于同类产品。
技术领域
本实用新型涉及光学成像领域,尤其是涉及一种二维布拉格周期扫描成像系统。
背景技术
对于二维成像设备来说分辨率是关系成像质量的一个至关重要的参数。二维成像设备从最初的480P发展到720P再到1080P成像质量得到了大幅度的提升。但是随着人们对大尺寸超高清成像的追求,常规的成像技术已经很难满足这种苛刻的要求了。
一方面成像质量的提升往往会导致像素数量成平方倍形式增加,像素数量的剧增对加工工艺提出了极大的挑战,大大增加了制造难度;另一方面随着像素数量的增加,像素坏点的概率也大幅增加,良品率大打折扣,导致高品质成像设备生产成本一直居高不下,甚至一些高端的产品只有少数几个公司可以生产。
因此,亟需一种可以用低像素密度、低像素数量的元器件实现超高像素成像的功能的显示方案,最好可以实现像素坏点存在的情况下也能正常使用。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题就在于:针对上述现有技术的不足,提供一种二维布拉格周期扫描成像系统,通过二维布拉格扫描机构的设置,驱动系统在成像过程中进行振动微扫描,从而提高成像的分辨率。
为解决上述技术问题,本实用新型一种二维布拉格周期扫描成像系统,包括:
二维成像元件,其上设有由若干像素点组成的像素阵列,所述像素阵列所在平面为像素阵列平面,
成像镜组;以及
二维布拉格扫描机构,分别与二维成像元件和/或成像镜组连接,用于驱动二维成像元件和/或成像镜组振动以实现微扫描的目的;
其中,二维成像元件和/或成像镜组的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量不为0。
进一步地,所述二维成像元件和/或成像镜组的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量可以分解为两个互相垂直的子运动,包括与二维成像元件的像素阵列的行平行的第一子运动以及与二维成像元件的像素阵列的列平行的第二子运动,所述第一子运动频率为f1,第二子运动的频率为f2,且f1和f2均大于6Hz。
进一步地,所述像素阵列的行的长度为L㎜、行间相邻像素点之间的距离或者平均距离为a1㎜,所述像素阵列的列的高度为W㎜、列间相邻像素点之间的距离或者平均距离为a2㎜,所述第一子运动的振幅为ΔL㎜,所述第二子运动的振幅为ΔW㎜,满足:ΔL≤5a1且ΔW≤5a2。
进一步地,f1>f2,且满足其中M为所述二维成像元件的质量,单位为g。
进一步地,所述二维成像元件为拍摄感光元件或者投影显示元件。
进一步地,所述像素阵列的列数和行数均小于720。
进一步地,还包括用于缩小像素点有效大小的像素点缩小装置。
进一步地,所述成像镜组在像素阵列平面上的有效光学作用区域内部最大圆形的直径为D㎜,满足如下关系:
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