[实用新型]反应处理容器

权利要求书

1.一种反应处理容器，其包括基板、以及被形成于上述基板的主表面的槽状的流路，

其特征在于，

在上述基板，设定有分别被维持在预定的温度的多个反应区域，样品在上述多个反应区域间反复往复移动以引起反应，

上述流路包括分别被包含于上述多个反应区域中的蛇行状流路、以及与上述蛇行状流路分别相邻的制动流路，

上述制动流路的截面积大于上述蛇行状流路的截面积。

2.如权利要求1所述的反应处理容器，其特征在于，

在将上述蛇行状流路的截面积记为Sr，将上述制动流路的截面积记为Sb时，截面积比Sb/Sr为1＜Sb/Sr≦1.8的范围内。

3.如权利要求2所述的反应处理容器，其特征在于，

上述截面积比Sb/Sr为1.02≦Sb/Sr≦1.5的范围内。

4.如权利要求2所述的反应处理容器，其特征在于，

上述截面积比Sb/Sr为1.02≦Sb/Sr≦1.2的范围内。

5.如权利要求1所述的反应处理容器，其特征在于，

上述蛇行状流路及上述制动流路包括开口部、底面、以及从上述底面向上述开口部扩大的锥状的侧面。

6.如权利要求5所述的反应处理容器，其特征在于，

上述蛇行状流路具有0.55mm～0.95mm的开口宽度、0mm～0.95mm的底面宽度、0.5mm～0.9mm的深度、以及0°～45°的锥角；

上述制动流路具有0.65mm～1.05mm的开口宽度、0mm～1.05mm的底面宽度、0.5mm～0.9mm的深度、以及0°～45°的锥角。

7.如权利要求5所述的反应处理容器，其特征在于，

上述底面与上述侧面的连接部为曲面状。

8.如权利要求7所述的反应处理容器，其特征在于，

上述连接部的曲率半径为0.2mm～0.38mm。

9.如权利要求1所述的反应处理容器，其特征在于，

上述蛇行状流路包含弯曲部；

上述弯曲部的曲率半径为0.3mm～10mm。

10.如权利要求1所述的反应处理容器，其特征在于，

还包括从上述流路分岔的分岔流路、以及被设置于上述分岔流路的样品导入口，

上述多个反应区域中最靠近上述分岔流路及上述样品导入口的反应区域与上述分岔流路及上述样品导入口之间的距离为5mm以上。

11.如权利要求1所述的反应处理容器，其特征在于，

还包括被设置于上述流路的两端的一对过滤器、从上述流路分岔的分岔流路、以及被设置于上述分岔流路的样品导入口，

在将从上述样品导入口起到最靠近上述样品导入口的过滤器为止的流路的体积记为Vf，将从上述样品导入口导入的样品的体积记为Vs时，满足k×Vs＜Vf，其中，k为0.1～10的实数。

12.如权利要求1所述的反应处理容器，其特征在于，

还包括被设置于上述流路的两端的一对过滤器、从上述流路分岔的分岔流路、以及被设置于上述分岔流路的样品导入口，

在从上述样品导入口导入的样品的体积为1μL～50μL时，从上述样品导入口到最靠近上述样品导入口的过滤器为止的流路的长度为2mm～200mm。

13.如权利要求1所述的反应处理容器，其特征在于，

与上述多个反应区域中的一个反应区域所包含的蛇形状流路相邻的制动流路位于距其以外的反应区域较远的一侧。