[实用新型]一种化学气相沉积设备的精准安装结构有效
申请号: | 202020875945.9 | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN212451628U | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 朱双林;李春敏;马国忠;胡人文;王恩强;黄道平;沈伟 | 申请(专利权)人: | 苏州索科特新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
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地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 精准 安装 结构 | ||
本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域,尤其涉及一种化学气相沉积设备的精准安装结构,解决现有技术中存在安装困难、容易漏气的缺点,包括机壳和气体分配盒,所述机壳上开设有安装孔,机壳的顶部依次固定设置有呈环形分布的定位锥块和定位销,所述气体分配盒的底部固定设置有与所述安装孔相匹配的安装部,所述安装部的外部包裹有密封垫,通过定位销、连接板、定位孔、定位锥块以及定位锥槽等结构的设置,安装时使用者可直接将连接板上的定位孔套在对应的定位销上,无需反复调节气体分配盒,降低了安装难度,利用定位锥块和定位锥槽配合提升安装精度,可确保气体分配盒的安装位置精准。
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域,尤其涉及一种化学气相沉积设备的精准安装结构。
背景技术
化学气相沉积(CVD)装置在做维护时,需要将气体分配盒重新安装到腔室本体上,并用至少两颗螺丝将其锁紧在腔室本体上。其中,所述气体分配盒用于使传输至反应腔内的反应气体在反应腔室内的分布更均匀,所述腔室本体用于支撑形成反应腔的零件,所述反应气体在所述反应腔内发生反应。在将气体分配盒安装到腔室本体上的过程中需要来回旋转气体分配盒,以使气体分配盒和腔室本体上用于螺丝安装的孔对准,然后再用螺丝将气体分配盒和腔室本体锁紧。
现有技术中的气体分配盒由于其质量较大,而在安装时需要人员反复调整将安装孔对齐,安装难度大,耗费人力较多,并且安装后部件松动时气体分配盒与设备之间容易漏气,使外部的杂质或气体混入设备内部,进而影响设备的沉积效果。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在安装困难、容易漏气的缺点,而提出的一种化学气相沉积设备的精准安装结构。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种化学气相沉积设备的精准安装结构,包括机壳和气体分配盒,所述机壳上开设有安装孔,机壳的顶部依次固定设置有呈环形分布的定位锥块和定位销,所述气体分配盒的底部固定设置有与所述安装孔相匹配的安装部,所述安装部的外部包裹有密封垫,气体分配盒的外侧开设有呈环形分布且与所述定位锥块相匹配的定位锥槽,且气体分配盒的外侧固定设置有呈环形分布的连接板,所述连接板的内部开设有与所述定位销相匹配的定位孔。
优选的,所述机壳、定位锥块以及定位销为一体成型结构。
优选的,所述气体分配盒、连接板以及安装部为一体成型结构。
优选的,所述定位锥块与定位锥槽的大小形状相同。
优选的,所述安装部的外侧焊接有弹簧,弹簧的另一端通过卡扣固定连接有挤压板,所述挤压板呈弧形状,且挤压板的另一侧与所述密封垫贴紧接触。
本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型中通过定位销、连接板、定位孔、定位锥块以及定位锥槽等结构的设置,安装时使用者可直接将连接板上的定位孔套在对应的定位销上,无需反复调节气体分配盒,降低了安装难度,利用定位锥块和定位锥槽配合提升安装精度,可确保气体分配盒的安装位置精准。
2、本实用新型中通过密封垫、挤压板以及弹簧等结构的设置,在安装部外部包裹了一侧加强密封性能的密封垫,利用安装部外部的挤压板使密封垫进一步形变,持续地保持安装部与设备间无间隙,在部件松动时仍能确保密封效果,进而避免了气体和杂质混入设备内部,确保了工件沉积的质量。
附图说明
图1为本实用新型提出的安装前的主视图;
图2为本实用新型提出的气体分配盒的俯视图;
图3为本实用新型提出的一种化学气相沉积设备的精准安装结构的A处放大图;
图4为本实用新型提出的安装后的结构示意图。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的