[实用新型]等离子体处理装置及蚀刻装置有效
| 申请号： | 202020923036.8 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN212182267U | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 张涛;张彬彬;伍凯义;苏财钰;向毅 | 申请（专利权）人： | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/305;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 江舟 |
| 地址： | 402760 重庆市璧*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 蚀刻 | ||
1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括蚀刻腔体和设于所述蚀刻腔体的排气端的至少两组缓冲组件；
所述至少两组缓冲组件包括第一缓冲组件和第二缓冲组件，所述第一缓冲组件和所述第二缓冲组件间隔第一预设距离，所述第一缓冲组件位于所述第二缓冲组件与所述排气端的端面之间，所述第一缓冲组件、所述第二缓冲组件和所述端面的中心点均位于同一直线上；
所述第一缓冲组件和所述第二缓冲组件均与所述蚀刻腔体的侧壁连接。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一缓冲组件与所述端面之间的间隔为第二预设距离，所述第二预设距离小于或等于所述第一预设距离。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第二预设距离为40至60毫米。
4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一缓冲组件包括第一缓冲圈和第一缓冲板；
所述第一缓冲板套装在所述第一缓冲圈内。
5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第二缓冲组件包括第二缓冲圈和第二缓冲板；
所述第二缓冲板套装在所述第二缓冲圈内。
6.根据权利要求1至5任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一预设距离为40至60毫米。
7.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述等离子体处理装置还包括固定件，所述第一缓冲组件和所述第二缓冲组件均通过所述固定件固定连接在所述蚀刻腔体的侧壁。
8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述固定件为真空螺母。
9.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一缓冲组件和所述第二缓冲组件均采用阳极化处理后的铝材制成。
10.一种蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置包括如权利要求1至9任一项所述的等离子体处理装置。
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