[实用新型]一种焖涮烤一体餐桌

权利要求书

1.一种焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述焖涮烤一体餐桌包括支撑结构(1)、中间为方形孔的桌面板(2)、烤盘加热结构(3)、焖涮盘加热结构(4)和烤盘(5)，所述桌面板(2)、烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)均设置在支撑结构(1)上，所述烤盘(5)匹配设置在烤盘加热结构(3)上方，所述烤盘(5)的外周呈方形与桌面板(2)的方形孔相匹配，烤盘(5)的中央设有对称图形孔，焖涮盘加热结构(4)呈对称图形的形状且与烤盘(5)中央的对称图形孔相匹配，所述烤盘(5)的中间盘面和所述焖涮盘加热结构(4)的顶面均低于所述桌面板(2)的板面高度。

2.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述对称图形选自方形、圆形和椭圆形。

3.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，在烤盘(5)上靠近方形角的位置设有漏油孔(51)，所述烤盘(5)的上表面设有用于防溅油的凸起纹路。

4.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘(5)上设有2～4个漏油孔(51)，所述漏油孔(51)的下方、支撑结构(1)的上方还设有接油盘(52)。

5.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘(5)为生铁材质的烤盘，烤盘的厚度为1～5mm，所述桌面板(2)为木板或大理石板。

6.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)为电磁炉或电陶炉；所述烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)的控制器设置在桌面板(2)的侧面。

7.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘(5)边壁的顶部与桌面板(2)平齐，烤盘(5)的中间盘面比烤盘边壁顶部低3～5cm。

8.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述焖涮盘加热结构(4)的顶面比桌面板(2)低10～20cm。

9.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述桌面板(2)外圈为圆形或者方形。

10.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述支撑结构(1)包括纵向支撑结构(11)和横向支撑结构(12)；所述纵向支撑结构(11)为桌腿或中间支撑柱；所述横向支撑结构(12)架设在纵向支撑结构(11)上，烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)架设在横向支撑结构(12)上。