[实用新型]一种用CVD法制备镀层的反应炉

权利要求书

1.一种用CVD法制备镀层的反应炉，包括用于放置镀件(2)并供镀件(2)在内进行气相反应的炉体(1)，其特征在于：所述炉体(1)上方设有扁圆柱进气分配室(5)，所述进气分配室(5)之上有原料气体进气管(10)，原料气体通过原料气体进气管(10)导入进气分配室(5)混合以后，由进气分配室(5)底部的多个出气孔被导入反应炉内；扁圆柱形进气分配室(5)的底部除了分布有多个通气孔之外，还垂直悬挂着多个挂钩(4)；所述挂钩用来通过孔洞(3)勾住镀件(2)；炉体(1)的和排气管(11)的之间还设有尾气收集室(6)；所述尾气收集室(6)为扁圆柱体，其顶部设置多个气孔，底部中央与排气管(11)相通。

2.如权利要求1所述的一种用CVD法制备镀层的反应炉，其特征在于：设置进气分配室和尾气收集室。

3.如权利要求1所述的一种用CVD法制备镀层的反应炉，其特征在于：镀件垂直悬挂也可通过夹具实现。

4.如权利要求1所述的一种用CVD法制备镀层的反应炉，其特征在于：采用非连续供应原料气体。

5.如权利要求1-4任一项所述一种用CVD法制备镀层的反应炉，其特征在于：多个镀件是不同形状和大小的镀件。