[实用新型]一种用CVD法制备镀层的反应炉

说明书

本实用新型公开了一种用CVD法制备镀层的反应炉，通过垂直悬挂式设置镀件，且采用气体分配室通入反应气体，还通过尾气收集室排尾气，便于间隙式供气模式，节约气体原料；本技术可对多个不同形状大小的镀件同时进行CVD反应制备镀层；而且结构简单，设备造价低，原料成本低，生产效率高；可在常压形式进行CVD反应，设备易于制造和推广使用。

【技术领域】

本实用新型涉及一种常压化学气相沉积反应炉。

【背景技术】

CVD是指高温下的气相反应，气相反应炉是一种常见的化学镀层装备，通常反应时间长，消耗气体量很大，成本高；而通常有管式或扁平式两种，管式小面积所以容量小，生产率低，其存在着效率低的缺点。

本实用新型就是基于这种情况作出的。

【实用新型内容】

本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种结构简单、效率高，节省原料气体的一种用CVD法制备镀层的反应炉。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种用CVD法制备镀层的反应炉，包括用于放置镀件(2)并供镀件(2) 在内进行气相反应的炉体(1)，其特征在于：所述炉体(1)上方设有扁圆柱气体分配室(5)，所述进气分配室(5)之上有进气管(10)，原料气体通过原料气体进气管(10)导入气体分配室(5)混合以后，由进气分配室(5)底部的多个出气孔被导入反应炉内；扁圆柱形进气分配室 (5)的底部除了分布有很多通气孔之外，还垂直悬挂着多个挂钩(5)；所述挂钩用来通过孔洞(3)勾住镀件(2)；炉体(1)的和排气管(11) 的之间还设有尾气收集室(6)；所述尾气收集室(6)为扁圆柱体，其顶部设置多个气孔，底部中央与排气孔(11)相通。

如上所述的一种用CVD法制备镀层的反应炉，其特征在于，镀件垂直悬挂也可通过夹具实现。

如上所述的一种用CVD法制备镀层的反应炉，其特征在于：设置进气分配室和尾气收集室，所以便于采用非连续供气形式，延长气体在反应炉中的停留时间，提高炉内反应气体扩散均匀性，并且可以节约气体原料。

如上所述的一种用CVD法制备镀层的反应炉，其特征在于：所述多个镀件(2)可以是不同形状和大小的镀件，任何形状的镀件都能实现均匀地在整个镀件表面进行镀层制备。

与现有技术相比，本实用新型有如下优点：

本实用新型通过垂直悬挂式设置镀件，对多个不同形状大小的镀件(2)同时进行CVD反应，还设置进气分配室通气体，尾气收集室排尾气，便于采用间歇供气，节约气体原料，降低成本，提高生产效率；而且结构简单，造价低；可在常压形式进行CVD反应，设备易于制造和推广使用。

【附图说明】

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细说明，

其中：

图1是本实用新型反应炉外观示意图；

图2本实用新型反应炉及镀件透视图；

图3是本实用新型反应炉内镀件俯视图

图4是本实用新型的进气管、排气管、设置进气分配室、尾气分配室、和炉体的组合结构图。

【具体实施方式】

下面结合附图对本实用新型作进一步描述：如图1至图4所示的一种用CVD法制备镀层的反应炉；九件有待于镀镍的铁板镀件(2)通过挂钩(4)和镀件(2)的小孔(3)垂直悬挂在气相反应的炉体(1)内，加热炉体到所定温度，恒温，通过原料气体进气管(10)把五种原料气体导入有扁圆柱气体分配室(5)，由进气分配室(5)底部的30个出气孔被导入反应炉内；尾气进入尾气收集室(6)的底部排气管(11)排出。