[实用新型]适用于磁控溅射镀膜的弧形曲面阴极

说明书

本实用新型公开了一种适用于磁控溅射镀膜的弧形曲面阴极，应用于具有曲面的镀膜工件，包括阴极座，阴极座具有与镀膜工件匹配的弧度截面，阴极座中央弧向设有磁钢槽；安装于磁钢槽内的永磁钢，永磁钢多段弧向排布于磁钢槽内；安装于阴极座且位于永磁钢上侧的铜隔板，铜隔板与永磁钢之间设有水冷通道；以及安装于铜隔板的靶材；其中，阴极座与永磁钢为弧形，且具有相同曲率。本实用新型通过弧形设置阴极，并利用铜隔板与永磁钢之间的水冷通道散热，避免以往在大曲率工件上采用平面阴极与旋转阴极进行磁控溅射镀膜的不适用性。

技术领域

本实用新型属于磁控溅射镀膜技术领域，具体地说，涉及一种适用于磁控溅射镀膜的弧形曲面阴极。

背景技术

磁控溅射镀膜(PVD镀膜)是一种镀膜方法，适用于光学薄膜镀膜。磁控溅射由于具有可大规模生产的优点，可以在保证材料组成的同时沉积氧化物或其他化合物，成为最常用的镀膜方法之一。

磁控溅射镀膜是在真空室中辉光放电的两极之间引入磁场，利用电子在电场作用下与溅射气体的原子发生碰撞使之变成等离子体，等离子体中的离子在电场作用下轰击靶材，使靶材表面的原子逸出并飞向基板，沉积在基板上并形成薄膜。

目前国内使用的磁控溅射镀膜阴极主要是使用的平面阴极与旋转阴极，这两种阴极的区别为靶材利用率的不同，但是本质上都是同一平面方向的溅射镀膜，无法使用在大曲率的工件上。

为了在大曲率的工件上进行磁控溅射镀膜，需要开发一种与大曲率工件相匹配的曲面镀膜阴极，同时也需具备良好的散热性。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型所要解决的技术问题是提供了一种适用于磁控溅射镀膜的弧形曲面阴极，通过弧形设置阴极，并利用铜隔板与永磁钢之间的水冷通道散热，避免以往在大曲率工件上采用平面阴极与旋转阴极进行磁控溅射镀膜的不适用性。

为了解决上述技术问题，本实用新型公开了一种适用于磁控溅射镀膜的弧形曲面阴极，应用于具有曲面的镀膜工件，包括阴极座，阴极座具有与镀膜工件匹配的弧度截面，阴极座中央弧向设有磁钢槽；

安装于磁钢槽内的永磁钢，永磁钢多段弧向排布于磁钢槽内；

安装于阴极座且位于永磁钢上侧的铜隔板，铜隔板与永磁钢之间设有水冷通道；以及

安装于铜隔板的靶材；

其中，阴极座与永磁钢为弧形，且具有相同曲率。

根据本实用新型一实施方式，其中上述永磁钢的曲率与镀膜工件的曲率一致。

根据本实用新型一实施方式，其中上述靶材设置为金属靶材，表面成一体式弧面，弧面与镀膜工件曲率相同。

根据本实用新型一实施方式，其中上述靶材设置为陶瓷靶材，表面微分成多个平面，且平面相互连接组成弧面，弧面与镀膜工件曲率相同。

根据本实用新型一实施方式，其中上述铜隔板具有对应的多个平面，且平面相互连接组成弧面，弧面与靶材弧面曲率相同。

根据本实用新型一实施方式，其中上述水冷通道由铜隔板与永磁钢间隔预留成型，且与靶材不接触。

根据本实用新型一实施方式，其中上述永磁钢均匀并紧密相邻分布于磁钢槽。

根据本实用新型一实施方式，其中上述水冷通道放置水冷盒，并由螺栓固定。

根据本实用新型一实施方式，其中上述靶材设置为金属靶材，表面成两段式弧面，弧面与镀膜工件曲率相同。

根据本实用新型一实施方式，其中上述铜隔板设置为弧形，且罩设分布于阴极座表面。

与现有技术相比，本实用新型可以获得包括以下技术效果：