[实用新型]一种长寿命溅射靶材组件有效
申请号: | 202020968641.7 | 申请日: | 2020-06-01 |
公开(公告)号: | CN212357372U | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;王学泽;边逸军;曹欢欢 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
地址: | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 寿命 溅射 组件 | ||
本实用新型涉及一种长寿命溅射靶材组件,所述长寿命靶材组件包括阶梯状靶材与环形背板;所述阶梯状靶材包括靶材基板以及凸出于靶材基板溅射面的凸块,靶材基板的中心与凸块的中心同心;所述靶材基板的侧壁与环形背板的内壁连接。本实用新型通过选用环状背板,并将靶材选择为阶梯状靶材,在增加靶材厚度的同时能够使靶材组件的整体厚度保持不变,而且能够保证背板的冷却效果。本实用新型提供的长寿命靶材组件的结构简单,便于加工生产,成本较低。
技术领域
本实用新型属于磁控溅射技术领域,涉及一种溅射靶材组件,尤其涉及一种长寿命溅射靶材组件。
背景技术
溅射靶材是半导体集成电路制备过程中重要的原材料之一,靶材的材质主要包括Al、Ni、Cu、Ti、W、贵金属及合金,主要用于集成电路中接触、通孔、互连线、阻挡层、封装等物理气相沉积薄膜的制备。
磁控溅射过程中,用加速的离子轰击靶材表面,使表面的原子沉积在基底表面。靶材在使用过程中,外观尺寸会直接影响靶材的使用寿命,为了降低集成电路制作成本,提高靶材寿命,可以通过改进靶材的形状及尺寸来降低生产成本,提高靶材寿命。
CN 204097558 U公开了一种长寿命溅射靶材,包括溅射面和冷却面,所述溅射面的溅射区域在靶材原溅射区的基础上增厚2mm以内,增厚的部分小于靶材原溅射区域,且增厚部分的边缘与靶材原溅射区域之间呈台阶状或斜坡状,原溅射区的厚度为5.8-6.2mm。所述长寿命溅射靶材通过增加溅射区域厚度提高了靶材的使用寿命,同时未参与溅射的边缘保持原尺寸,避免影响靶材的安装及整体溅射性能,但所得长寿命溅射靶材的使用寿命最高仅能达到520kWh,仍然较低。
CN 201793723 U公开了一种长寿命溅射靶材,包括溅射面,所述溅射面包括两个溅射区域,沿径向方向由外向里依次为第一溅射区域与第二溅射区域,所述第二溅射区域高于第一溅射区域。所述两个溅射区域的中心与所述溅射靶材的中心同心。该长寿命溅射靶材通过使第二溅射区的高度高于第一溅射区,提高了溅射靶材的使用寿命,但溅射靶材的使用寿命与第一溅射区域的厚度有关,仅通过增加第一溅射区厚度来提高使用寿命又会影响磁控溅射的效果。
CN 201962347 U公开了一种长寿命溅射靶材组件,包括靶材,所述靶材包括溅射面和背面,所述背面设置凸块,所述凸块的尺寸不小于第一区域的尺寸,所述第一区域为靶材溅射速率最快区域围成的区域;背板,所述背板具有正面与背面,所述正面设置凹槽,凹槽的尺寸与靶材凸块尺寸匹配,靶材凸块安装在背板凹槽内。该长寿命靶材组件通过在靶材消耗较快区域设置凸块,使整块靶材在溅射过程中使用到的量得到增加,从而提高整个靶材组件的使用寿命。然后靶材的使用寿命增加有限,且提高了靶材组件的加工难度。
对于现有技术存在的问题,提供一种结构简单、便于加工成型的靶材组件,不仅有利于提高靶材的使用寿命,还能够提高靶材的利用率,降低企业的生产成本。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种长寿命靶材组件,通过选用环状背板,并将靶材选择为阶梯状靶材,在增加靶材厚度的同时能够使靶材组件的整体厚度保持不变,而且能够保证背板的冷却效果。本实用新型提供的长寿命靶材组件的结构简单,便于加工生产,成本较低。
为达到此实用新型目的,本实用新型采用以下技术方案:
本实用新型提供了一种长寿命靶材组件,所述长寿命靶材组件包括阶梯状靶材与环形背板;所述阶梯状靶材包括靶材基板以及凸出于靶材基板溅射面的凸块,靶材基板的中心与凸块的中心同心;所述靶材基板的侧壁与环形背板的内壁连接。
本实用新型通过使背板为环形背板,将靶材与环形背板的内壁连接,从而实现了增大靶材厚度的同时使使靶材组件的整体厚度保持不变,进而提高了靶材组件的使用寿命。而且,本实用新型提供的长寿命靶材组件的结构简单,仅通过焊接既能够将靶材与背板进行连接,操作方便,便于所述长寿命靶材组件的推广应用。
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