[实用新型]一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置

说明书

本实用新型公开了一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置，真空室的侧壁开设有若干第一穿孔，每个蒸发源的靶材过盈配合插接于真空室中，每个靶材面向真空室外侧的一端均固定设有密封板，每个密封板位于靶材面向真空室外部一侧，每个密封板均与真空室外侧壁相互贴合，每个永磁铁固定仓均为圆筒状且一端设有开口，每个永磁铁固定仓内均永磁铁，每个永磁铁固定仓远离真空室的一端圆心处均开设有螺纹穿孔，每个螺纹穿孔中螺纹均连接有丝杆，每个丝杆的一端分别与永磁铁固定连接、另一端位于永磁铁固定仓外侧且固定连接有梅花手轮。本实用新型具有保持永磁铁在靶材表面磁场强度稳定、使靶材充分燃烧、增加靶材的利用率、减少靶材跑弧风险的优点。

技术领域

本实用新型涉及蒸发源应用领域，特别涉及一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置。

背景技术

用于多弧离子镀设备的蒸发源，磁场一般都是固定的永磁铁，但是，伴随着靶材的消耗，永磁铁在靶材表面产生的磁场强度会越来越强，导致靶材的消耗不均匀，容易产生跑弧等现象。

在公开号为CN207418850.U,名称为“磁力传动大面积蒸发镀膜机”的中国发明专利中涉及到了一种磁力传动大面积蒸发镀膜机，在真空腔室侧壁上设有磁力传动装置，磁力传动装置包括传动滑块、外滑动导轨、外磁铁、内滑动导轨、内磁铁、基片台，外磁铁、内磁铁磁性相反，传动滑块、外滑动导轨、外磁铁均位于真空腔室外，外磁铁固定于传动滑块上，传动滑块可在推动装置作用下沿所述外滑动导轨滑动，内滑动导轨、内磁铁、基片台均位于真空腔室内，基片台固定于所述内磁铁上，内磁铁可在外磁铁的作用下在所述内滑动导轨上滑动。利用外磁铁带动内磁铁在真空室内移动，但是，对比文件中虽然同样使蒸发源的使用利率达到最大化，但是并未解决靶材消耗的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置，具有保持永磁铁在靶材表面磁场强度稳定、使靶材充分燃烧、增加靶材的利用率、减少靶材跑弧风险的优点。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置，包括真空室和若干蒸发源，每个所述蒸发源包括靶材、永磁铁、密封板、永磁铁固定仓、丝杆和梅花手轮；

所述真空室的侧壁开设有若干第一穿孔，每个所述蒸发源的靶材分别通过第一穿孔过盈配合插接于真空室中，每个所述靶材面向真空室外侧的一端均固定设有密封板，每个所述密封板位于靶材面向真空室外部一侧，每个所述密封板均与真空室外侧壁相互贴合，每个所述永磁铁固定仓均为圆筒状且一端设有开口，每个所述永磁铁固定仓设有开口的一端均固定位于密封板远离靶材的一侧，每个所述永磁铁固定仓内均设置永磁铁，每个所述永磁铁固定仓远离真空室的一端圆心处均开设有螺纹穿孔，每个所述螺纹穿孔中螺纹均连接有丝杆，每个所述丝杆的一端分别与永磁铁固定连接、另一端位于永磁铁固定仓外侧且固定连接有梅花手轮。

其中优选方案如下：

优选的：每个所述靶材与永磁铁均为圆饼形。

优选的：每根所述丝杆上开设有一条长度与丝杆一致的刻度槽,所述刻度槽的宽度为3-5mm，所述刻度槽的深度为1-2mm。当靶材位于真空室中的一侧有损耗时，转动梅花手轮，即带动永磁铁向后退，通过观察丝杆刻度槽内的刻度，方便在调节永磁铁与靶材之间的距离,能掌握永磁铁与靶材之间的距离。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

通过永磁铁、永磁铁固定仓和丝杆的设置，能够起到方便调节永磁铁与靶材之间距离的效果。本实用新型具有保持永磁铁在靶材表面磁场强度稳定、使靶材充分燃烧、增加靶材的利用率、减少靶材跑弧风险的优点。

附图说明

图1是本实施例外部结构；

图2是本实施例中蒸发源的部分剖视图的整体结构。