[实用新型]单体气化装置及其应用的镀膜设备

说明书

本申请涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种单体气化装置及其应用的镀膜设备，单体气化装置包括箱体，箱体内设有用于封装液态单体气的单体容器以及用于对单体容器恒温加热的恒温加热系统，单体容器上还设有出气管，通过恒温加热系统对单体容器加热使液态单体气气化并使气化后的单体气形成一定的带压气源从出气管流出，且单体容器上还设有用于检测单体容器内液态单体气的余量的单体液位测量装置。本申请的单体液位测量装置可实时测量液态单体气液位，以便监测单体气余量，通过恒温加热系统恒温加热单体容器，可使单体容器内温度均匀升高，使得液态单体气气化，从而使单体容器内气态单体形成一定单体压强，保证其真空镀膜时的连续性和稳定性。

【技术领域】

本申请涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种单体气化装置及其应用的镀膜设备。

【背景技术】

目前的镀膜设备一般不具有单体气余量的监测功能，无法保证单体气源气化后的气源压强恒定，不满足真空镀膜要求，只能靠观察口处查看或根据设备运行时间来粗略估算单体气余量，对于设备运行存在隐患，不利于设备整体的运行及维护。

【发明内容】

为解决现有的镀膜设备不具有单体气余量的监测功能，无法保证单体气源气化后的气源压强恒定的问题，本申请提供一种单体气化装置及其应用的镀膜设备。

本申请为解决其技术问题所采用的技术方案：

单体气化装置，包括箱体，所述箱体内设有用于封装液态单体气的单体容器以及用于对所述单体容器恒温加热的恒温加热系统，所述单体容器上还设有出气管，通过所述恒温加热系统对单体容器加热使液态单体气气化并使气化后的单体气形成一定的带压气源从出气管流出，且所述单体容器上还设有用于检测单体容器内液态单体气的余量的单体液位测量装置。

如上所述的单体气化装置，所述箱体内位于所述单体容器的外周设有注水腔，所述恒温加热系统加热所述注水腔内胆液体进而恒温加热所述单体容器。

如上所述的单体气化装置，所述恒温加热系统包括加热器、液位传感器以及温度传感器，所述加热器设于所述注水腔内，所述温度传感器和所述液位传感器均连接所述加热器，所述温度传感器用于实时检测水温，并在水温未达标时控制加热器加热以调节水温，所述液位传感器设于箱体的侧壁，用于测量水位且在水位过低时停止加热器的加热。

如上所述的单体气化装置，所述箱体的内侧设有用于放置所述单体容器的座板，所述座板的下侧设有多个间隔设置并与箱体底部相连用于支撑所述座板的支撑板。

如上所述的单体气化装置，所述箱体还包括用于密封所述注水腔的盖板，所述单体液位测量装置固定于所述盖板上。

如上所述的单体气化装置，所述单体液位测量装置包括磁感液位计和与所述磁感液位计相连伸入单体容器内的测量管。

如上所述的单体气化装置，所述箱体还包括设于注水腔外侧的夹层腔体。

如上所述的单体气化装置，所述箱体的底部外壁设有与所述注水腔连通的注水口，所述箱体的顶部外壁设有与所述注水腔连通的溢流口。

如上所述的单体气化装置，所述箱体的侧壁还设有与所述注水腔连通的放水口。

一种镀膜设备，包括上述的单体气化装置。

与现有技术相比，本申请有如下优点：

1、本申请的箱体上设有单体液位测量装置，可实时测量液态单体气液位，以便监测单体气余量，通过恒温加热系统恒温加热单体容器，可使单体容器内温度均匀升高，使得液态单体气气化，从而使单体容器内气态单体形成一定单体压强，保证其真空镀膜时的连续性和稳定性。