[实用新型]一种用于单晶硅片的清洗沥干装置

权利要求书

1.一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗箱（3），其特征在于：所述清洗箱（3）内部底端两侧分别开设有沥干槽（9）和超声波清洗槽（10），所述清洗箱（3）内部上端中部之间固定设置有导杆（1），所述导杆（1）左侧固定设置有移动机构（2），所述移动机构（2）底端固定设置有电动伸缩杆（4），所述电动伸缩杆（4）底端固定设置有清洗框（6），所述沥干槽（9）内部两侧均开设有凹槽（13），所述凹槽（13）内部上端与下端均固定设置有安装架（14），所述安装架（14）在远离凹槽（13）的一侧之间均固定设置有电动风机（7），所述清洗箱（3）外部右侧上端固定设置有控制面板（12），所述控制面板（12）通过导线分别与移动机构（2）、电动伸缩杆（4）和电动风机（7）电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述清洗箱（3）外部左侧中上端开设有通槽且通槽内部固定设置有挡板（5）。

3.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述清洗箱（3）底端左侧在位于沥干槽（9）的相对位置固定设置有接收盒（8），所述接收盒（8）顶端四周与清洗箱（3）之间固定设置有连接轴板（15）。

4.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述清洗箱（3）底端右侧在位于沥干槽（9）的相对位置固定设置有放水头，所述清洗箱（3）外部右侧中部固定设置有进水头（11）。

5.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述清洗箱（3）顶端固定设置有盖板，所述电动风机（7）与凹槽（13）之间均存在间隙。

6.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述清洗框（6）外部均开设有若干圆孔，所述清洗框（6）呈橡胶材质制成。