[实用新型]一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具

权利要求书

1.一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其特征在于：其包括吸盘本体，所述吸盘本体包括吸盘底托、吸附上凸，所述吸盘底托的上表面中心上凸形成吸附上凸，所述吸附上凸的上表面中心区域设置有导流槽，所述导流槽的中心位置设置有中心孔，所述中心孔贯穿所述吸附上凸、吸盘底托的厚度方向，所述吸盘底托的下表面中心位置设置有内凹圆柱槽，所述吸盘底托的外环面环布有若干个厚度方向贯穿的连接孔，其还包括有工作台底托，紧固螺栓贯穿所述连接孔后连接所述工作台底托的对应定位孔，所述工作台底托的上表面中心上凸，所述上凸内嵌于所述内凹圆柱槽进行定位，所述工作台底托的底部支承于安装座上，所述工作台底托的厚度方向设置有贯穿的真空导气孔，所述真空导气孔连通所述中心孔的底部，对应的一寸晶片的下表面贴付住所述吸附上凸的上表面。

2.如权利要求1所述的一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其特征在于：所述导流槽具体包括外环槽、若干径向连通槽，所述中心孔的顶部通过所述径向连通槽连接所述外环槽的对应位置。

3.如权利要求2所述的一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其特征在于：所述外环槽以所述中心孔的中心为圆心布置。

4.如权利要求3所述的一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其特征在于：所述径向连通槽的数量为四，相邻的径向连通槽互相垂直布置。

5.如权利要求1所述的一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其特征在于：所述导流槽的上表面的粗糙度≤0.2Ra、且平整无缺损。