[实用新型]一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具

说明书

本实用新型提供了一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其采用错位台阶的方式将吸盘改小，解决设备与砂轮干涉问题，且通过合理设计导流气槽及槽位置，达到吸附晶片的效果。其包括吸盘本体，所述吸盘本体包括吸盘底托、吸附上凸，所述吸盘底托的上表面中心上凸形成吸附上凸，所述吸附上凸的上表面中心区域设置有导流槽，所述导流槽的中心位置设置有中心孔，所述中心孔贯穿所述吸附上凸、吸盘底托的厚度方向，所述吸盘底托的下表面中心位置设置有内凹圆柱槽，所述吸盘底托的外环面环布有若干个厚度方向贯穿的连接孔，其还包括有工作台底托，紧固螺栓贯穿所述连接孔后连接所述工作台底托的对应定位孔，所述工作台底托的上表面中心上凸。

技术领域

本实用新型涉及液体特殊吸盘治具的技术领域，具体为一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具。

背景技术

目前，市场上销售及实用的GaAs衬底晶片规格为2～6寸规格，由于小规格一寸衬底晶片太过于细小，以往没有出现该规格产品，但近期市场逐步有该规格订单，由于晶片过小，受设备与工装的影响，其底托直径比产品直径还要大，由于受到底托干涉，遇到边型无法加工的技术性问题，故急需设计对应的真空吸盘治具。

发明内容

针对上述问题，本实用新型提供了一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其采用错位台阶的方式将吸盘改小，解决设备与砂轮干涉问题，且通过合理设计导流气槽及槽位置，达到吸附晶片的效果。

一种一寸衬底晶片手动磨边真空吸盘治具，其特征在于：其包括吸盘本体，所述吸盘本体包括吸盘底托、吸附上凸，所述吸盘底托的上表面中心上凸形成吸附上凸，所述吸附上凸的上表面中心区域设置有导流槽，所述导流槽的中心位置设置有中心孔，所述中心孔贯穿所述吸附上凸、吸盘底托的厚度方向，所述吸盘底托的下表面中心位置设置有内凹圆柱槽，所述吸盘底托的外环面环布有若干个厚度方向贯穿的连接孔，其还包括有工作台底托，紧固螺栓贯穿所述连接孔后连接所述工作台底托的对应定位孔，所述工作台底托的上表面中心上凸，所述上凸内嵌于所述内凹圆柱槽进行定位，所述工作台底托的底部支承于安装座上，所述工作台底托的厚度方向设置有贯穿的真空导气孔，所述真空导气孔连通所述中心孔的底部，对应的一寸晶片的下表面贴付住所述吸附上凸的上表面。

其进一步特征在于：所述导流槽具体包括外环槽、若干径向连通槽，所述中心孔的顶部通过所述径向连通槽连接所述外环槽的对应位置；

所述外环槽以所述中心孔的中心为圆心布置；

所述径向连通槽的数量为四，相邻的径向连通槽互相垂直布置，使得外环槽的吸附力均匀可靠；

所述导流槽的上表面的粗糙度≤0.2Ra、且平整无缺损，确保对晶片的吸附。

采用上述技术方案后，结构中的吸盘本体包括吸盘底托、吸附上凸，吸盘底托的上表面中心上凸形成吸附上凸，吸附上凸的上表面中心区域设置有导流槽，导流槽的中心位置设置有中心孔，中心孔贯穿吸附上凸、吸盘底托的厚度方向，其采用错位台阶的方式将吸盘改小，解决设备与砂轮干涉问题，且通过合理设计导流气槽及槽位置，达到吸附晶片的效果。

附图说明

图1为本实用新型和砂轮的组装结构示意图；

图2为本实用新型的吸盘本体的俯视图结构示意图；

图3为本实用新型的吸盘本体的主视图剖视结构示意图；

图4为本实用新型的吸盘本体的仰视图结构示意图；

图中序号所对应的名称如下：

吸盘本体1、吸盘底托11、吸附上凸12、导流槽2、外环槽21、径向连通槽22、中心孔3、内凹圆柱槽4、连接孔5、工作台底托6、上凸61、安装座7、真空导气孔8、一寸晶片9、驱动电机13、砂轮14。

具体实施方式