[实用新型]一种真空镀膜快速成型装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜快速成型装置，包括腔体，腔体内部设置有镀膜空间，镀膜空间内部设置有靶材，靶材顶部固定连接有连接体，连接体内侧固定连接有驱动体，靶材下方设置有敲击探头，驱动体远离靶材的一侧设置有第一抽真空组件，镀膜空间远离腔体的一侧设置有过渡墙，过渡墙中心处内部设置有过渡阀，过渡墙远离镀膜空间的一侧设置有过渡空间，过渡空间内部下方设置有加热结构，加热结构上方设置有第二抽真空组件，过渡空间的内部设置有减容体。本实用新型的一种真空镀膜快速成型装置，通过过渡阀可选择与位于该过渡空间两侧的镀膜空间连通或隔绝，每个过渡空间中均设置有第二抽真空组件，能够提高制造效率。

技术领域

本实用新型涉及领域，特别涉及一种真空镀膜快速成型装置。

背景技术

现有的技术设备真空镀膜法是一种在触控面板、太阳能电池等等的光电产业、半导体产业常见的镀膜技术，已知真空镀膜法包含物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等方式。以薄膜太阳能电池制程为例，需要利用真空镀膜方式于一基板镀上透明导电薄膜电极、光电转换层等膜层，又或者，例如铜铟镓薄膜太阳能电池制作时，则需要先于基板镀上铜薄膜、铟薄膜后再进行硒化处理。现有的一种真空镀膜设备，因为控制阀门开启与关闭，会耗费一定的时间。而且当阀门开启后，相邻两腔室就会互相连通，上一腔室中的工作气体会流到下一腔室内，进而影响下一腔室内的真空度，且任一腔室要进行镀膜时，都必须先将腔室内抽到一定的真空度后再通入工作气体，因此每当基板送入下一腔室后，为了维持下一腔室的真空度，又必需重新抽真空而耗费时间，如此导致制造麻烦、时间长，制造效率低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种真空镀膜快速成型装置，可以有效改善背景技术中阐述的制造麻烦、时间长，制造效率低的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种真空镀膜快速成型装置，包括腔体，所述腔体内部设置有镀膜空间，所述镀膜空间内部设置有靶材，所述靶材顶部固定连接有连接体，所述连接体内侧固定连接有驱动体，所述靶材下方设置有敲击探头，所述驱动体远离靶材的一侧设置有第一抽真空组件，所述镀膜空间远离腔体的一侧设置有过渡墙，所述过渡墙中心处内部设置有过渡阀，所述过渡墙远离镀膜空间的一侧设置有过渡空间，所述过渡空间内部下方设置有加热结构，所述加热结构上方设置有第二抽真空组件，所述过渡空间的内部设置有减容体。

优选的，所述镀膜空间的数量有若干组且首尾相连，所述每一个镀膜空间内部均含有靶材、连接体、驱动体、敲击探头、第一抽真空组件与加热结构，所述两相邻的镀膜空间之间通过过渡墙相隔离。

优选的，所述连接体的形状呈圆环型，所述驱动体的动力装置为电动机，所述驱动体外侧设置有六个连接杆，所述驱动体位于连接体的圆环的圆心处通过连接杆与连接体固定连接。

优选的，所述敲击探头的动力装置为固定于腔体内部的气缸。

优选的，所述过渡墙的数量有若干组，所述每两个过渡墙之间形成一个过渡空间且将镀膜空间相隔离，所述每个过渡墙中心处皆贯穿设置有过渡阀。

优选的，所述过渡空间的数量有若干组，所述每一个过渡空间内部皆设置有加热结构与第二抽真空组件，所述过渡空间的容积小于任一个镀膜空间。

优选的，所述减容体的数量有若干组，且每两个分布在过渡空间的内部上下处。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：该一种真空镀膜快速成型装置，通过每一个镀膜空间内部均包含靶材、连接体、驱动体、敲击探头、第一抽真空组件以及加热结构，位于相邻两个镀膜空间之间均设置有过渡空间，过渡空间的容积小于任一镀膜空间的容积，过渡空间的两侧均设置有过渡墙，过渡墙上均设置有过渡阀，过渡空间通过过渡阀可选择与位于该过渡空间两侧的镀膜空间连通或隔绝，每个过渡空间中均设置有第二抽真空组件，本实用新型能够提高制造效率。

附图说明