[实用新型]一种测试结构有效
申请号: | 202021090911.5 | 申请日: | 2020-06-12 |
公开(公告)号: | CN211879333U | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 王志强 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 柳虹 |
地址: | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测试 结构 | ||
1.一种测试结构,其特征在于,包括:
第一金属线,第二金属线,所述第一金属线和所述第二金属线之间的介质层;所述第一金属线用于连接第一电压,所述第二金属线用于连接第二电压;
其中,所述第一金属线通过第一电编程熔丝连接第一电压,和/或,所述第二金属线通过第二电编程熔丝连接第二电压。
2.根据权利要求1所述的测试结构,其特征在于,所述第一电编程熔丝和所述第二电编程熔丝为金属硅化物层。
3.根据权利要求1所述的测试结构,其特征在于,所述第一金属线和所述第二金属线位于同一平面内,且均为梳状结构,均具有多个导电梳齿,所述导电梳齿相互交错,形成梳状对梳状的结构。
4.根据权利要求1所述的测试结构,其特征在于,所述第一金属线和所述第二金属线位于同一平面内,所述第一金属线为梳状结构,具有多个导电梳齿,所述第二金属线为蛇形弯曲结构,所述第二金属线环绕所述导电梳齿,所述导电梳齿嵌于所述蛇形弯曲的第二金属线构成的凹槽中。
5.根据权利要求1所述的测试结构,其特征在于,所述第一金属线和所述第二金属线位于不同平面内,所述第一金属线和所述第二金属线结构相同且上下对准重叠设置,所述第一金属线和所述第二金属线为梳状结构或蛇形弯曲结构,所述梳状结构具有多个导电梳齿。
6.根据权利要求1所述的测试结构,其特征在于,所述第一金属线和所述第二金属线位于同一平面内且为相互平行的直线或蛇形弯曲结构。
7.根据权利要求3-5任意一项所述的测试结构,其特征在于,所述导电梳齿具有延伸的多个子结构。
8.根据权利要求1-6任意一项所述的测试结构,其特征在于,所述第一金属线上设置有第一金属端子,所述第一金属端子与所述第一电编程熔丝连接,所述第一电编程熔丝连接所述第一电压;和/或,所述第二金属线上设置有第二金属端子,所述第二金属端子与所述第二电编程熔丝层连接,所述第二电编程熔丝连接所述第二电压。
9.根据权利要求1-6任意一项所述的测试结构,其特征在于,所述第一金属线和所述第二金属线为铜线或铝线。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021090911.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种电子信息自动化控制柜
- 下一篇:一种具有投影功能的音响
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造