[实用新型]一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台有效

专利信息
申请号: 202021111475.5 申请日: 2020-06-16
公开(公告)号: CN213266697U 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 罗娟 申请(专利权)人: 西安艾美科光电科技有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 氢化 非晶硅 光学薄膜 生产 旋转 平台
【说明书】:

实用新型公开了一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台,包括旋转平台和反应板,所述反应板设于旋转平台上方,且反应板与旋转平台匹配设置,所述旋转平台下方设置有连接板,所述连接板上侧壁对称设置有伸缩外管,且旋转平台下侧壁固定连接有与伸缩外管匹配的伸缩内管,所述伸缩外管与伸缩内管竖直滑动连接,所述连接板与旋转平台之间还通过高度调节装置连接。本实用新型通过在伸缩内管上设置刻度线与高度调节装置配合在一切,可以清楚的反应旋转平台上升的高度,从而快速根据不同需求控制伸缩内管的伸缩量,大大的提高了调节效率,同时又保证了反应的原子和原子团能够均匀的排列在旋转平台上的膜层上,确保光学薄膜成型厚度均匀。

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域,尤其涉及一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台。

背景技术

光学薄膜由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料,其中氢化非晶硅薄膜是一种重要的半导体材料,由于其具有优越的光电特性而被广泛的应用于各类电子器件上,实际生活中,在氢化非晶硅光学薄膜其进行生产过程中,会采用旋转平台对膜层进行承载,保证反应过程中,膜层的不断旋转,使反应的原子或原子团能够均匀的排列在膜层上,使薄膜成型厚度均匀。

现有的用于生产氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台多为固定式,实际生产中,有些可以调节高度的旋转平台对其高度进行调节的时候操作也较复杂,高度调节不够精细,从而降低反应效果,影响反应质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中旋转平台高度调节较为繁琐、使得光学薄膜成膜不够均匀的缺陷,从而提出一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台,包括旋转平台和反应板,所述反应板设于旋转平台上方,且反应板与旋转平台匹配设置,所述旋转平台下方设置有连接板,所述连接板上侧壁对称设置有伸缩外管,且旋转平台下侧壁固定连接有与伸缩外管匹配的伸缩内管,所述伸缩外管与伸缩内管竖直滑动连接,所述连接板与旋转平台之间还通过高度调节装置连接。

优选地,所述高度调节装置包括与连接板上侧壁中心处转动连接的丝杆,所述连接板上侧壁设置有固定板,所述固定板上转动连接有转杆,所述转杆靠近丝杆的一端贯穿固定板固定连接有第一斜齿轮,且丝杆上固定套设有与第一斜齿轮啮合的第二斜齿轮,所述丝杆上螺纹连接有升降螺母,所述升降螺母位于第二斜齿轮上方,且升降螺母侧壁对称设置有折弯杆,每个所述折弯杆上端均与旋转平台下侧壁固定连接。

优选地,所述转杆远离第一斜齿轮的一端设置有转钮,所述转钮设置有半球形。

优选地,所述折弯杆设置成L型,且折弯杆外表面光滑打磨处理。

优选地,所述伸缩内管和伸缩外管均采用不锈钢材料制作而成,且伸缩内管外侧壁设置有分布均匀的刻度线。

本实用新型的有益效果是:通过在伸缩内管上设置刻度线与高度调节装置配合在一切,可以清楚的反应旋转平台上升的高度,从而准确得知反应板与旋转平台之间的间距,从而快速根据不同需求控制伸缩内管的伸缩量,大大的提高了调节效率,同时又保证了反应的原子和原子团能够均匀的排列在旋转平台上的膜层上,确保光学薄膜成型厚度均匀,通过高度调节装置的设置,在伸缩内管和伸缩外管的限位作用下可以快速简便的调节旋转平台的高度,有效的解决了传统旋转平台升降结构复杂、调节不便的特点,进一步提高了工作效率。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台的正面结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台的侧面结构示意图;

图3为本实用新型提出的一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台的连接板俯视结构示意图。

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