[实用新型]一种晶圆扫描喷嘴清洗槽有效

专利信息
申请号: 202021130986.1 申请日: 2020-06-18
公开(公告)号: CN213162175U 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 邹志文;华强;侯永刚;黄奔;孟庆国;刘杰;崔虎山;许开东 申请(专利权)人: 北京鲁汶半导体科技有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 王美章
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 圆扫描 喷嘴 清洗
【权利要求书】:

1.一种晶圆扫描喷嘴清洗槽,包括:

清洗槽本体,所述清洗槽本体的槽壁上设有进液接头,清洗槽本体的槽壁上位于所述进液接头的下方设有溢流接头,清洗槽本体的底部设有排液接头,其特征在于,还包括:

隔膜泵,通过下排管路与所述排液接头连接。

2.根据权利要求1所述的晶圆扫描喷嘴清洗槽,其特征在于,所述下排管路为全氟烷氧基树脂管路。

3.根据权利要求1所述的晶圆扫描喷嘴清洗槽,其特征在于,所述排液接头包括接头本体、以及设置在接头本体上的排液阀。

4.根据权利要求1所述的晶圆扫描喷嘴清洗槽,其特征在于,所述清洗槽本体内部包括多个槽体单元,每个槽体单元上均设有至少一个进液接头、至少一个排液接头以及至少一个溢流接头。

5.根据权利要求1~4中任一所述的晶圆扫描喷嘴清洗槽,其特征在于,所述清洗槽本体内设有液位传感器。

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