[实用新型]一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置

权利要求书

1.一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，包括正面盘和背面盘，所述背面盘表面设置有中心圆形区和外圈环形区，所述外圈环形区靠近所述清洁盘外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布设置有多个凸起颗粒，所述正面盘靠近外边缘处设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构表面设置有多个倾斜孔道，所述倾斜孔道插入并贯穿所述清洁盘。

2.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述凸起颗粒表面为光滑结构或磨砂结构。

3.根据权利要求2所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述凸起颗粒的直径为0.1-5mm。

4.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述凸起环形区的宽度为5-40mm。

5.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述倾斜孔道在所述环形凸台结构上均匀分布，相邻的所述倾斜孔道之间在所述清洁盘上的分布角度为5-60°。

6.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述外圈环形区为聚合物材质。

7.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述中心圆形区采用硬度不小于蓝宝石的材料。

8.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述中心圆形区的直径范围是20-200mm，厚度是0.1-10mm。

9.一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，包括如权利要求1至8任一所述的清洁盘，还包括承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构；

所述清洁盘设置在所述承片台上，所述清洁盘的正面与所述承片台接触，所述清洁盘的背面朝上；

所述清洁液喷洒机构设置在所述承片台外部，所述清洁液喷洒机构包括第一喷头和第二喷头，所述第一喷头设置在所述承片台外部，且所述第一喷头的喷头朝向所述清洁盘背面，所述第二喷头的一端连接有机械手臂，所述机械手臂位于所述清洁盘背面上方的中心处，所述第二喷头的喷头朝向所述清洁盘背面；

所述调节旋转机构安装在所述承片台底端，用于驱动所述承片台转动并调节转速。

10.根据权利要求9所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述承片台上还安装有吸盘，所述吸盘将所述清洁盘吸附在所述承片台上。

11.根据权利要求9所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁装置，其特征在于，所述调节旋转机构为伺服电机。