[实用新型]一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置

说明书

本实用新型提供了一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置，所述清洁盘包括正面盘和背面盘，所述背面盘表面设置有中心圆形区和外圈环形区，所述外圈环形区靠近所述清洁盘外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布设置有多个凸起颗粒，所述正面盘靠近外边缘处设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构表面设置有多个倾斜孔道，所述倾斜孔道插入并贯穿所述清洁盘，所述清洁装置包括上述的清洁盘，还包括承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构，本实用新型的清洁盘及清洁装置对光刻胶涂胶托盘具有良好的清洁效果，缩短了清洗时间。

技术领域

本实用新型涉及光刻技术领域，尤其涉及一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置。

背景技术

随着微电子制造的重要性愈发凸显，光刻工艺作为微电子制造的关键一环，技术不断地创新与发展，对光刻工艺的要求也随之升高。光刻工艺包括涂胶工艺、曝光工艺、显影工艺，涂胶工艺作为光刻工艺的基础，在产线中使用频率很高，因此涂胶托盘的清洗也十分重要。

目前主流的涂胶托盘的清洗设备，针对常见的三层与四层托盘有不同的设计，清洗的工艺也不同，对设备的日常维护管理造成了不便。

现有技术中，专利申请号为201920861749.3，专利名称为“一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘”，该自清洁涂胶装置包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴。承片托盘内部径向方向开设斜向上管道，用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对保护罩侧壁进行充分清洗；清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管；清洗液管与承片托盘底部相连。保护罩上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向，解决胶面彗尾等问题；承片托盘内部开设斜向上清洗液通道用于喷涂清洗液，全面清洗保护罩内壁；保护罩底部侧壁为圆弧斜坡形，易于排出清洗后废液，操作简单。整个装置复杂度低，成本低廉。

而主流的托盘的清洗设备，由于结构单一，导致对涂胶托盘的局部区域进行清洁的时候效果不佳，无法满足要求

因此，有必要提供一种新型的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置以解决现有技术中存在的上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置，能够对光刻胶涂胶托盘的各个位置进行有效清洁。

为实现上述目的，本实用新型的所述一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，包括正面盘和背面盘，所述背面盘表面设置有中心圆形区和外圈环形区，所述外圈环形区靠近所述清洁盘外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布设置有多个凸起颗粒，所述正面盘靠近外边缘处设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构表面设置有多个倾斜孔道，所述倾斜孔道插入并贯穿所述清洁盘。

本实用新型的有益效果在于：上述结构的清洁盘通过凸起环形区上的多个凸起颗粒，可以在对涂胶托盘清洁的时候，将清洁盘表面流过的清洁液打散雾化，并使得雾化的清洁液可以运动到更远的地方，从而对涂胶托盘起到更好的清洁作用，而环形凸台结构通过阻挡作用将清洁液引导进入多个倾斜孔道之中，使得清洁液可以流入到涂胶托盘更加靠下的位置，提高清洁液对涂胶托盘的清洁效果。

优选的，所述凸起颗粒表面为光滑结构或磨砂结构。

优选的，所述凸起颗粒的直径为0.1-5mm。

优选的，所述凸起环形区的宽度为5-40mm。

优选的，所述倾斜孔道在所述环形凸台结构上均匀分布，相邻的所述倾斜孔道之间在所述清洁盘上的分布角度为5-60°。

上述角度均匀分布的倾斜孔道分布间隔合理，能够将清洁盘上的部分清洁液阻挡并均匀导入到倾斜孔道中，以便于通过倾斜孔道排入到涂胶托盘的更靠下的位置，提高清洗效果。

优选的，所述外圈环形区为聚合物材质。