[实用新型]一种金刚石基欧姆接触结构

权利要求书

1.一种金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：包括金刚石衬底，所述金刚石衬底的表面设有欧姆接触电极，所述欧姆接触电极包括两层金属电极层，接触金刚石衬底的第一电极层为Ni金属层，第一电极层的上层为第二电极层，第二电极层为化学惰性金属层。

2.一种金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：包括金刚石衬底，所述金刚石衬底的表面设有单晶金刚石外延薄膜，所述的单晶金刚石外延薄膜上设有欧姆接触电极，所述欧姆接触电极包括两层金属电极层，接触单晶金刚石外延薄膜的第一电极层为Ni金属层，第一电极层的上面为第二电极层，第二电极层为化学惰性金属层。

3.根据权利要求1或2所述的金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：所述的第一电极层的厚度为2-200nm。

4.根据权利要求1或2所述的金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：所述的第二电极层的厚度为20-400nm。

5.根据权利要求2所述的金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：所述的单晶金刚石外延薄膜的厚度为10nm到10微米。

6.根据权利要求1或2所述的金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：所述的第二电极层材质为Au、W、Ir、Pd或Pt。

7.根据权利要求1或2所述的金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：所述的金刚石衬底为单晶金刚石薄膜、多晶金刚石薄膜、高温高压金刚石衬底、表面氢化处理过的金刚石、P型掺杂金刚石或N型掺杂金刚石。

8.根据权利要求1或2所述的金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：所述的第一电极层和第二电极层的沉积方式为电子束蒸发、磁控溅射、原子层沉积或化学气相沉积金属镀膜方法。

9.根据权利要求2所述的金刚石基欧姆接触结构，其特征在于：所述的单晶金刚石外延薄膜采用微波等离子体化学气相沉积方法制备。