[实用新型]一种焦铜离子处理设备

权利要求书

1.一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池(2)和过滤池(5)，其特征在于：所述沉淀池(2)和过滤池(5)相对面顶端通过连接板(10)连接，所述沉淀池(2)内部下表面中间位置处安装有第一挡板(3)，所述第一挡板(3)一侧安装有第二挡板(4)，所述第一挡板(3)背离第二挡板(4)的一侧沉淀池(2)上端安装有安装板(12)，所述过滤池(5)内部靠近沉淀池(2)的一侧安装有初过滤层(9)，所述过滤池(5)内部背离沉淀池(2)的一侧安装有超滤层(8)。

2.根据权利要求1所述的一种焦铜离子处理设备，其特征在于：所述沉淀池(2)和过滤池(5)外侧下端安装有预安装板(1)，且预安装板(1)内部插接有预安装螺母(6)，所述预安装板(1)和预安装螺母(6)均设有四个。

3.根据权利要求1所述的一种焦铜离子处理设备，其特征在于：所述连接板(10)顶端安装有水泵(19)，所述水泵(19)输入端安装有水泵进水管(18)，且水泵进水管(18)末端安装有防堵头(17)，所述水泵(19)输出端安装有水泵出水管(20)。

4.根据权利要求1所述的一种焦铜离子处理设备，其特征在于：所述沉淀池(2)背离过滤池(5)的一侧上端设置有进水管(11)。

5.根据权利要求1所述的一种焦铜离子处理设备，其特征在于：所述过滤池(5)背离沉淀池(2)的一侧上端设置有出水管(7)。

6.根据权利要求1所述的一种焦铜离子处理设备，其特征在于：所述安装板(12)内侧焊接有溢水板螺栓(14)，且溢水板螺栓(14)外侧套接有溢水板安装件(13)，所述溢水板螺栓(14)末端转动安装有溢水板螺母(15)，所述溢水板安装件(13)外侧安装有溢水板(16)，所述溢水板安装件(13)和溢水板(16)均设有四个。

7.根据权利要求6所述的一种焦铜离子处理设备，其特征在于：四个所述溢水板(16)长度不一，且从上至下逐渐加长。