[实用新型]一种焦铜离子处理设备

说明书

本实用新型公开了一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池和过滤池，所述沉淀池和过滤池相对面顶端通过连接板连接，所述沉淀池内部下表面中间位置处安装有第一挡板，所述第一挡板一侧安装有第二挡板，所述第一挡板背离第二挡板的一侧沉淀池上端安装有安装板，所述过滤池内部靠近沉淀池的一侧安装有初过滤层，所述过滤池内部背离沉淀池的一侧安装有超滤层。本实用新型是一种焦铜离子处理设备，能够有效的进行沉降，且能够通过两次过滤，将含有焦铜离子的污水进行有效的处理，过滤完成之后的水，可达到循环使用的标准，能够返回到车间继续使用，能够有效的节省成本。

技术领域

本实用新型涉及焦铜离子处理设备技术领域，具体为一种焦铜离子处理设备。

背景技术

焦铜离子，一般存在于电镀废水中，焦磷酸铜电镀液的主要成分是焦磷酸铜和焦磷酸钾，它们相互作用形成焦磷酸铜钾螯合物，pH在8-9时，铜处于相对稳定的螯合状态，添加硫代硫酸亚铁将铜还原成Cu2O，并且使用氢氧化铁团聚将铁二价或三价羟基化，当吸附Cu2O以达到去除铜的目的时，会发生共沉淀。

这是现在处理焦铜离子的设备基本都使用的步骤，在进行这些步骤之后，需要进行沉降，再进行过滤，从而将焦铜离子从水中分离出来，但是现在的沉降池，其沉降效果较差，且需要长时间稳定状态，才能完成沉降工作，无法满足大量的废水处理的要求，所以，现在需要一种焦铜离子处理设备，使焦铜离子能够快速的被清理掉。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种焦铜离子处理设备，具备能够提高现有沉降池的沉降效果，从而提成废水处理的效率的优点，解决了现在的沉降池，其沉降效果较差，且需要长时间稳定状态，才能完成沉降工作，无法满足大量的废水处理的要求的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池和过滤池，所述沉淀池和过滤池相对面顶端通过连接板连接，所述沉淀池内部下表面中间位置处安装有第一挡板，所述第一挡板一侧安装有第二挡板，所述第一挡板背离第二挡板的一侧沉淀池上端安装有安装板，所述过滤池内部靠近沉淀池的一侧安装有初过滤层，所述过滤池内部背离沉淀池的一侧安装有超滤层。

优选的，所述沉淀池和过滤池外侧下端安装有预安装板，且预安装板内部插接有预安装螺母，所述预安装板和预安装螺母均设有四个。

优选的，所述连接板顶端安装有水泵，所述水泵输入端安装有水泵进水管，且水泵进水管末端安装有防堵头，所述水泵输出端安装有水泵出水管。

优选的，所述沉淀池背离过滤池的一侧上端设置有进水管。

优选的，所述过滤池背离沉淀池的一侧上端设置有出水管。

优选的，所述安装板内侧焊接有溢水板螺栓，且溢水板螺栓外侧套接有溢水板安装件，所述溢水板螺栓末端转动安装有溢水板螺母，所述溢水板安装件外侧安装有溢水板，所述溢水板安装件和溢水板均设有四个。

优选的，四个所述溢水板长度不一，且从上至下逐渐加长。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型通过设置安装板和溢水板，达到了将废水下落的速度进行缓冲，避免将沉降池底部的沉积物冲起，影响沉降功效的效果，当废水从进水管进入到沉降池内部的时候，废水会经过四个溢水板，从而形成四次缓冲，能够有效的将水的动冲击力化解掉，能够使沉降的效果更好。

2、本实用新型通过设置第一挡板和第二挡板，达到了将废水进行两次沉降，使沉降效果更好的效果，当第一挡板靠近溢水板一侧的水位高于第一挡板的时候，水会越过第一挡板，进入到第一挡板和第二挡板之间，进行二次沉降，水位不断上升，当到达第二挡板的高度之后，水会越过第二挡板，最后，通过水泵，将水抽出，通过两级沉降，使沉降效果更好，设备能够将焦铜离子有效的去除。

附图说明

图1为本实用新型的主视结构示意图；